플라즈마 강화 화학 기상 퇴적 (PECVD) 시스템

1. 유연한 퇴적 능력

·실리콘 기반 퇴적 공정 - 산화물, 질소화물, 산소 질소화물, 비실리콘(a-Si), 그리고탄화규소(SiC는）

·연구 및 개발

·원형 제작

·소량 생산 -광자학, 고체 조명、MEMS는나노 기술

·응용 분야: 층간 절연층, 둔화층, 패키지층, 마스크층, 반사방지층

2. 성능 가치

1.대형 수동 적재대(406mm)

2. 뛰어난 청결도

3.고균일성

4. 높은 처리량

5. 신뢰할 수 있는 소프트웨어

6. 컴팩트한 설치 공간

7.비용 효율성

8.손쉬운 서비스

9.업계 최고 수준의 구성 요소 사용

3. 검증된 솔루션

· 광범위한"열쇠 건네기"공예

· 최적화된 스프레이 헤드를 통해 고박막 균일성 실현

· 높은 표준 활용도 및 신뢰성 – OEM 구성 요소 1단계(Tier Ⅰ), 신속한 진공 흡입, 과도한 세척을 방지하는 제자리 종점 감지 옵션

· 공인된 서비스 및 지원

· 저주파 또는 헬륨가스 희석을 통한 응력 제어