탁상형 다중 보조 화학 기계 광택 설비

탁상형 다중 보조 화학 기계 광택 설비
최대 4인치 샘플과 호환되는 데스크탑형 멀티 필드 보조 화학 기계 광택 장비로 특수 크기의 광택 헤드를 사용자 정의할 수 있습니다.3-8 가스 통로.특수 패브릭 "2점 웨이브 구슬 위치" 플랜지 사용
계.위치가 정확하고 분해가 편리하다.

샘플 가공 크기: 최대 4인치와 호환되며 특수 사이즈 광택 헤드를 사용자 정의할 수 있습니다.
프로세스 클립 방법: 수동 작업.
광택 헤드 하부 압력: 최대 350N(수요에 따라 더 높은 압력을 개방할 수 있음)
광택 헤드 회전 속도: 최대 120RPM(필요에 따라 더 높은 회전 속도 개방)

옵티컬 드라이브 회전 속도: 최대 120RPM(필요에 따라 더 높은 회전 속도 개방)
포광 디스크 지름: 300mm.
광택액: 2소켓, 유속 최고 200mL/min(수요에 따라 더 높은 유량을 개방할 수 있음)
온라인 측정 모듈: 모터 토크, 회전 속도, 기압 등.
멀티플렉스 모듈: 전기 화학 모듈, 광촉매 모듈 옵션

루프/샘플의 독립적인 기압 제어를 유지하여 다단 압력을 실현할 수 있다.탁상형 다중 보조 화학 기계 광택 설비