쌍광자 3차원 레이저 직사 광각기 & 광각 접착제

쌍광자광각접착제는 광민재료를 기반으로 한 광각접착제로서 쌍광자가 흡수하는 작용하에 화학반응을 일으킨다.이 과정은 전통적인 단광자 광각과 달리 전통적인 광각에서 단일 광자는 전자의 자극을 유발하고 화학 반응을 일으킬 수 있으며, 이중 광자 광각은 두 개의 저에너지 광자의 동시 흡수에 의존한다.이 경우 광민감 재료는 초점에서 고강도 레이저를 받을 때만 광화학 반응을 일으킬 수 있다.

　　1. 쌍광자 포토레지스트의 기본 원리

쌍광자광각접착제는 광민재료를 기반으로 한 광각접착제로서 쌍광자가 흡수하는 작용하에 화학반응을 일으킨다.이 과정은 전통적인 단광자 광각과 달리 전통적인 광각에서 단일 광자는 전자의 자극을 유발하고 화학 반응을 일으킬 수 있으며, 이중 광자 광각은 두 개의 저에너지 광자의 동시 흡수에 의존한다.이 경우 광민감 재료는 초점에서 고강도 레이저를 받을 때만 광화학 반응을 일으킬 수 있다.

쌍광자흡수란 레이저의 파장이 비교적 길면 두 광자의 에네르기가 동시에 재료에 흡수될수 있으며 쌍광자흡수효과를 거쳐 재료중의 일부 분자에 전자약진이 발생하여 그 화학성질을 개변시킬수 있다.이러한 현상의 관건은 이중 광자 포토레지스트의 반응은 높은 에너지의 초점 영역에서만 발생하며, 주변 영역의 포토레지스트 재료는 광자 에너지가 부족하기 때문에 반응을 일으키지 않아 나노 레벨의 정밀 가공을 실현할 수 있다는 것이다.

쌍광자 광각 과정에서 레이저빔의 강도와 광각 접착제의 광민성은 두 가지 중요한 요소이다.고강도 레이저는 비교적 작은 공간에 초점을 맞추어 쌍광자의 흡수를 효과적으로 촉발하여 광민재료에 교련이나 중합 등 화학변화를 초래할수 있다.이 기능은 이중 광자 광각을 3D 공간에서 고해상도 그래픽 제조를 가능하게 합니다.

　　2. 쌍광자 광각 접착제의 주요 특징

1. 초고해상도

전통적인 단광자광각기술에 비해 쌍광자광각은 뚜렷한 우세를 갖고있는데 두드러진것은 바로 그 고해상도이다.이중 광자 광각은 국부 영역에서의 광자의 초점 효과에 의존하기 때문에 반응 영역은 거의 레이저 빔의 초점 근처에 국한되기 때문에 포토레지스트는 몇 나노미터 수준의 정밀도를 실현할 수 있다.현재 쌍광자 광각 기술의 해상도는 이미 10나노미터급에 도달하여 전통적인 광각 기술을 훨씬 초월하여 나노 척도 가공에 대한 수요를 만족시킬 수 있다.

2. 3차원 가공 능력

쌍광자 광각 기술은 독특한 3차원 공간 가공 능력을 가지고 있다.전통적인 광각 기술은 일반적으로 2D 평면에서만 도안 각식을 할 수 있지만, 이중 광자 광각 접착제는 레이저의 초점 위치를 제어하여 3D 공간에서 정확한 조각을 할 수 있다.이러한 3차원 가공 능력은 쌍광자 광각 기술을 마이크로 나노 가공, 3차원 나노 구조의 제조에서 우위를 가지게 한다.

3. 고광택 민감성 및 정밀 제어

높은 광민감성은 매우 낮은 레이저 출력에서 광화학 반응을 시작할 수 있게 하여 가공 과정을 더욱 정확하고 통제할 수 있게 한다.이와 동시에 광각과정에서의 노출시간과 광속의 초점크기를 정확하게 조절할수 있어 도안의 가공정밀도를 한층 더 높일수 있다.

4.미열 효과

이중 광자 광각은 빔의 초점 영역에서만 발생하기 때문에 다른 부분의 광 민감 재료는 레이저를 받지 않기 때문에 발생하는 열이 상대적으로 적기 때문에 전통적인 광각 과정에서 나타날 수 있는 열 효과가 재료에 미치는 영향을 피할 수 있다.이것은 쌍광자 광각을 일부 열 민감 재료의 가공에서 우위를 발휘할 수 있게 한다.

5.높은 선택성과 역방향 산란 저항력

쌍광자광각접착제는 비교적 높은 선택성을 갖고있어 레이자초점의 고강도의 비추어야만 반응을 일으킬수 있으며 반응하는 구역은 일반적으로 레이저의 초점점이므로 역산란과 교란을 효과적으로 피면할수 있어 광각의 도안질을 제고시킬수 있다.