열원자층 퇴적

장치 설명:

소형 데스크탑ALD(원자층 퇴적) 도구는 단순한 조작과 설치를 위해 설계되었으며 희생되지 않습니다.그 성질능, 사용비용 효율형 연구 및 개발。

반도체급 소자, 금속 밀봉선 및 강력한PLC 구동 사용자 인터페이스, 빠른 순환과 고품질의 다중 조립 필름, 유지 보수가 용이，반복 및 보안 실행 가능

기술 매개 변수:

·크기 L*W*H: 62.3*61*40cm(4인치)

·가장높은온도도가달315℃

·금속밀봉관도(대기 를 줄이다더러움염색의기계회)

·유기금속원 3종(150°C까지 가열 가능)과 산화제/환원제원 2종(반열키트는 180℃까지 가열 가능),추가 공반응물 옵션 제공

·내장형 불활성 가스 청소를 위한 초고속 MFC를 갖춘 고온에 견디는 고속 펄스 ALD 밸브 - 표준

·4인치, 6인치, 8인치 기판용 맞춤형 카드 케이스 클램프(대형 및 멀티 챔버용 3개,위쪽 웨이퍼) 사용 가능)

·정적반응강도식아래가실현높은덮다덮개

·대역 세트되다PL는C통제의7인치명시표시화면

·평생부드러운부품오르다급

옵션 사용 가능

·맞춤형 카드판/받침대 ~ 오존발생기 ~ QCM (석영결정 마이크로천평) 병 가열부품

·병을 위한 거품기 설계 / 전구체 가열 파이프라인 185 ℃ 로 추가 업그레이드 / 장갑 상자 통합 연결

·공기 흐름 전구체 하우징 - 이형 캐비티 맞춤형 구성 - 맞춤형 시스템 컨설팅

장치 이점

Ø공장은ALD 분야의 전문가

Ø고품질 부품 (반도체급 회선, 밸브, 금속 밀봉 (물 또는 공기 침입 없음)

Ø신뢰할 수 있음 (PLC 제어 - 드라이버 업그레이드 불필요, 추가 카드 불필요) 및 신뢰성(유지 관리 용이)

Ø실험실 기술자를 위해 설계되었습니다

Ø작고 컴팩트한 공간

Ø작은 체적실은 빠르게 퇴적되고 적은 전구체 폐기물과 3차원 구조로 깊이 침투하는 것을 의미한다

Ø빠른 온도 상승 (및 냉각) 시간

Ø화학물질은 반응물과 분리되기 때문에 파이프, 밸브 등에 퇴적되지 않는다....

Ø전구체와 캐비티 사이의 길이가 짧음 (회선 막힘 감소 기회)

Ø간단한 작업 (표준 레시피와 함께 150개 메뉴)

왜 선택안리크기술???

세계 주류의ALD 제조업체, 예ASM 인터내셔널 N.V.， Beneq는，Pi는cosun은， Oxford Instruments는，TEL 등, 이 큰 공장들은 산업화된 ALD 설비에 전념하고 있다.

안리크기술： 작은 미니, 데스크탑에 집중ALD 설비는 조작이 간단하고 수리가 경제적이며 과학 연구 사용자에게 특히 적합하다.

개발자 소개:

필립 드 루피냐크(Philippe de Rouffignac)박사졸업하버드 대학교 화학부지도교사로이 고든 교수, 박사 과정 중에 몇 대를 설계 개발하였다.ALD 장치 및 HarvardNanoscale 시스템 센터작업은 그동안 진행되었다포함CVD/ALD 사전 제작기 개발나중에 나와서 만들었어요안리는C 기술, 실험실 연구를 위한 미니 및 데스크탑ALD 입니다.