Rapid XES 하드 X선 방출 스펙트럼

Rapid XES 기기 정보

Rapid XES 하드 X선 방출 스펙트럼(X-ray Emission Spectroscopy, XES)는 재료의 전자 구조와 화학 성질을 연구하는 데 주로 사용되는 중요한 분석 기술입니다.하드 엑스선은 샘플 내부에 깊이 들어가 XES가 재료의 깊은 정보를 탐지하는 강력한 도구가 될 수있는 높은 에너지를 가지고 있습니다.XES의 주요 응용 분야는 다음과 같습니다.

1.화학 상태 분석: XES는 재료의 화학 성질과 반응 메커니즘을 이해하는 데 필수적인 산화 상태 및 배위 환경과 같은 시료의 원소 화학 상태에 대한 직접적인 정보를 제공 할 수 있습니다.

2.재료 과학: 새로운 재료의 개발 및 연구에서 XES는 재료의 전기학 및 광학 성능을 최적화하는 데 매우 중요한 재료의 전자 구조, 에너지 대역 구조 및 가격 대역 정보를 분석하는 데 사용됩니다.

3.촉매 연구: XES 기술은 원자 수준에서 촉매의 활성 위치와 전자 환경을 탐지 할 수 있으며 더 효율적인 촉매를 설계 할 수있는 가능성을 제공합니다.

4.환경 과학: 환경 시료 (예: 토양, 수체 및 대기 입자) 에서 오염 물질의 화학 상태를 분석함으로써 XES는 오염 물질의 출처, 이동 및 전환 과정을 이해하는 데 도움이됩니다.

5.에너지 재료 연구: 배터리, 연료 전지 및 태양 에너지 재료의 전자 구조 및 작동 메커니즘을 연구 할 때 XES는 이러한 에너지 변환 및 저장 장치의 성능을 최적화하는 데 중요한 의미를 가진 핵심 전자 측면 정보를 제공합니다.

6. 생물의학 분야: XES는 생물분자(예를 들어 단백질과 효소)에서 금속 이온의 배위 환경을 연구하는데 사용되는데 이것은 생물분자의 기능을 이해하고 약물을 설계하는 데 중요한 역할을 한다.

7. 지구과학: 지구와 행성과학연구에서 XES는 광물과 암석견본을 분석하여 그 성분과 형성과정에서의 환경조건을 밝혀낼수 있다.

하드 엑스선 발사 스펙트럼 (XES) 기술은 원소 및 화학 상태 정보를 제공하기 때문에 과학 연구 및 산업 응용에서 점점 더 중요한 역할을 수행하고 있으며, 특히 다른 기술을 사용하여 샘플의 심층 또는 미량 원소를 직접 탐지할 수 없는 상황에서 더욱 중요합니다.측정 기술이 발전함에 따라 XES는 앞으로 더 많은 분야에서 응용될 것으로 예상된다.

기기의 원리:

기기 모양:

Rapid XES 하드 X선 방출 스펙트럼계측 매개변수:

1. 에너지 범위 탐지: 5~15keV;

2.3d원소 K변, 5d과도금속 L변 및 악티늄계 원소 L변 형광봉을 측정할 수 있다;

3.전자공혈효율:≥1×1011;

4.에너지 해상도: ≤ 1.5 eV Cu Ka;

5. 검사 제한: ≤ 0.1% wt;

6. 반복성: 스캔 에너지 오프셋 반복<50meV;

7.헬륨가스 캐비닛, X선 공기 흡수를 감소한다;

8.순도 높은 Si 또는 Ge 결정 단색기, 전능지역 에너지 해상도를 보장한다;

9. 제자리 풀 시스템을 배치하면 각종 모듈화된 제자리 테스트 시스템을 설계할 수 있으며, 고온 저온, 다상 촉매, 전기 촉매 등 각종 제자리 테스트 시스템을 통합하여 모듈화 전환을 실현할 수 있다;

10.데이터 처리 시스템 포함, 수집 과정 중 발사 스펙트럼 데이터 자동 출력, 추가 전환 불필요.

참조 데이터: