PEALD는

하나,쌍강실 고진공 플라즈마PEALD는시스템핵심 매개변수:

가격대: 100만-200만

산지 유형: 국산 원자층 퇴적 시스템(ALD)

라이닝 크기: F200mm

공정 온도: RT-500±1ºC

전구체 수: 최대 3조의 플라즈마 반응 기체 4조의 액체 또는 고체 반응 전구체를 포함할 수 있다

무게: 300kg

크기(WxHxD): 1400*1000*1900mm

균일성: 균일성<1%

2.이중 챔버 고진공 플라즈마 ALD 시스템응용 원리 분석:

원자층침적(Atomiclayerdeposition)은 기상전구체 펄스를 반응강체 내로 번갈아 통하게 하고 퇴적기체에 화학적으로 흡착해 반응함으로써 퇴적막을 형성하는 기술로 자한성과 자포화가 있다.원자층 퇴적 기술은 주로 각종 크기와 모양의 기저에 고정밀도, 바늘구멍이 없고 보형이 높은 나노박막을 퇴적하는 데 응용된다.

플라즈마 증강 원자층 퇴적(PlasmaEnhancedAtomicLayerDeposition,PEALD는) 는 ALD 기술의 확장으로 플라즈마의 도입을 통해 대량의 활성자유기를 생성하고 전구체 물질의 반응활성을 강화하여 ALD의 전구원에 대한 선택범위와 응용요구를 확대하였으며 반응주기의 시간을 단축하였으며 동시에 시료의 퇴적온도에 대한 요구도 낮추어 저온 심지어 상온퇴적을 실현할수 있어 온도에 민감한 재료와 유연성재료의 박막퇴적에 특히 적합하다.

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4. 주요 기술 매개 변수:

5. 테스트 결과 전시: