Ossila 소재 PTB7 CAS: 1266549-31-8 PTB7

동물실험 연구 등에만 사용

배치 정보

Ossila 소재 PTB7 CAS: 1266549-31-8 PTB7

응용 프로그램

고성능 유기 광전력을 위한 PTB7.

Poly[[4,8-bis[(2-ethylhexyl)oxy]benzo[1,2-b:4,5-b']dithiophene-2,6-diyl][3-fluoro-2-[(2-ethylhexyl)carbonyl]thieno[3,4-b]thiophenediyl]], 더 일반적으로 PTB7로 알려져 있습니다.

지금 전 세계적으로 즉시 배송할 수 있습니다.

PTB7은 가까운 적외선과 낮은 HOMO 수준으로 확장된 흡수로 인해 폴리머: 풀레렌 태양전지에 대한 가장 높은 보고된 효율성을 제공합니다.우리의 완전한 정보 처리 패키지와 함께 PTB7은 장치 효율성을 향상시키는 빠르고 쉬운 방법이 됩니다.이것은 다양한 OPV 관련 연구를 위해 장치 및 데이터의 성능과 영향을 높이는 비용 효율적인 방법을 나타냅니다.

10 mg/ml의 스핀 코팅 장치의 전형적인 농도에서 100 mg의 표준 배치는 10 ml의 잉크를 생산합니다. 준비 및 여과에서 50% 잉크 손실을 가정하더라도 Ossila의 표준 크기의 기판 200개를 코팅하기에 충분합니다.1 mg/ml(1 mg/ml 농도(잉크 제트 인쇄 및 스프레이 코팅에 더 전형적)에서 최대 100 ml의 잉크를 생산할 수 있습니다.

표준화된 참조 아키텍처 (PEDOT: PSS 구멍 인터페이스와 Ca / Al 전자 인터페이스를 사용하여) 우리는 이 배치가 PFN을 사용하여 6.8% (아래 데이터 시트를 참조) 및 최대 7.4%의 PCE를 제공하는 것을 보여주었습니다.새로운 인터페이스 재료와 아키텍처를 사용함으로써 PTB7은 문학에서 9.2% PCE의 효율성을 달성하는 것으로 나타났습니다 [1,2].

광범위한 용매에 대한 높은 용용성은 잉크 준비 및 여과를 간단하게 만들고 있으며 PTB7은 우리가 이제까지 사용한 가장 쉬운 재료 중 하나입니다 (단순히 용용용용용용해하기 위해 용용용용용제를 광광광광광범위의 용용제에 대한 높은 용용용성이이것은 또한 잉크 제트 인쇄, 스프레이 코팅 및 블레이드 코팅을 포함한 다양한 코팅 기술에 대한 훌륭한 후보자입니다.

가공에 대한 정보는 PTB7, 일반 제조 비디오, 일반 제조 가이드, 표준 아키텍처의 광학 모델링 종이 [3]에 대한 특정 제조 세부 사항을 참조하거나 추가 도움이나 지원을 위해 저희를 참조하십시오.

참조(Ossila는 이러한 참조에 있는 저자 또는 기관과 공식적인 관계가 없음을 주의하십시오):

• [1]반전 장치 구조를 사용하여 폴리머 태양전지의 전력 변환 효율성 향상Zhicai He et al., Nature Photonics, V 6, p591–595 (2012).
• [2]고분자 태양전지 전압, 단회로 전류 밀도 및 채우기 요인의 동시에 향상Zhicai He et al., Advanced Materials, V 23, p4636-4643 (2011).
• [3]금속 감극 전극을 제어함으로써 카르바솔 공중합체 태양전지의 효율성을 최적화Darren C. Watters et al., 유기 전자, V 13, p1401-1408 (2012)
• [4]감소된 캐리어 재조합과 77%의 채우기 요인을 가진 삼중 혼합 대량 heterojunction 태양전지 설계,N. Gasparini 등, Nat. 에너지, 16118 (2016);도이: 10.1038/nenergy.2016.118 (Ossila는 PTB7은 이 논문에 표시되었습니다.)

Ossila 소재 PTB7 CAS: 1266549-31-8 PTB7

데이터시트

PTB7의 화학 구조;화학 공식 (C)₄₁H₅₃FO는₄S₄)_n.

사양

사용 세부 사항

반전 참조 장치

참조 장치는 PTB7:PC의 효과를 평가하기 위해 배치 M211에 만들어졌습니다.₇₀아래 구조를 가진 반전 아키텍처를 사용하여 OPV 효율성에 대한 BM 활성 층 두께.이들은 아래 구조로 구성되어 있으며 주변 조건에서 이이이를 이이이이용하고 측정하기 전에 비활성 대기 (글로브박스) 아래에서 제조되었습니다.

유리 / ITO (100 nm) / PFN (6.5 nm) / PTB7: PC₇₀BM (1:1.5) / MoO_x(15 nm) / Al (100 nm)

일반적인 자세한 내용은 일반 제조 가이드 및 비디오를 참조하십시오.특정 내용은 다층 스택의 광학 모델링 및 최적화에 대한 자세한 내용을 제공하는 아래 자자자세한 축축축 제조 보고서를 참조하십시오.

이전에는 약 6.5 nm의 PFN이 최적의 성능을 제공한다는 것을 보여주었으며, 모델링은 Al 백 카소드가 MoO와 함께 사용할 때 Ag보다 더 높은 성능을 제공한다는 것을 보여주었습니다._x[4].

PTB7 : PC₇₀BM 솔루션은 정확한 형태를 촉진하기 위해 3% 디오오BM BM 솔루션을 3% 디오오BM BM 솔루션을 3% 디오오오BM BM BM 솔루션을 3% 디오오오BM BM 솔루션을 3% 디오오오BM BM 솔루션

75 nm, 90 nm 및 105 nm 의 활성 층 두께는 광학 모델링에 의해 예측된 대로 전형적인 스택의 '광광필름' 흡수 정점의 하단, 중간 및 상단 끝에 대응하는 것에 대해 선택되었습니다 [1].이러한 두께 각각에 대해 총 4개의 기판이 생산되었으며 각각 4개의 픽셀이 있으며 아래에 제시된 데이터는 PCE에 의해 최고의 75%의 픽셀의 비주관적 (인간의 개입이 없음) 분석을 나타냅니다 (각 조건에 대해 12개의 픽셀).

또한 성능을 향상시키기 위해 문학에서 보고된 바와 같이 DIO를 제거하는 데 도움이되는 메탄올 세척으로 추가 두 개의 기판이 준비되었습니다. [1]

전반적으로, 7.2% 평균 PCE (최대 7.4%) 의 최대 효율성은 75 nm 필름 두께에서 발견되었습니다.

그림 1: PCE, Jsc, Voc 및 FF는 다른 스핀 속도에서 반전 아키텍처 장치를 위한 것입니다.표시된 데이터는 가득 차있는 원으로 Max 및 Min 오버레이드 된 평균입니다 (Dektak 측정에 대한 참고 참조하십시오).이전에 보고된 것처럼 [1,2,3], 약 90 nm의 필름은 더 큰 Jsc와 채우기 요인에서 작은 손실만으로 가장 높은 성능을 제공합니다.

그림 2: 최고의 성능을 가진 장치의 JV 곡선 - 반전 아키텍처.

참고 1:Dektak 두께 교정

우리는 일반적으로 우리는 우리는 우리는 우리는 Dektak 표면 프로파일러를 사용하여 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 일반적으로 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 일반적인 조건에서 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 일반적인 조건에서 완전히 건조하기 위해 몇 시간이 걸릴 수 있기 때문에 DIO를 사용하여 우리는 우리는 일반적으로 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는DIO는 또한 80 ° C에서 약 10 분 동안 빠빠빠른 측정을 수행하는 데 유용할 수 있지만 또한 중합체와 PCBM 사이의 과도한 단계 분리를 구동하여 장치 작업에 적합하지 않게 만드는 뜨거운 플레이트에 기판을 DIO를 DIO를 제거할 수 있습니다.

참고 2:Epoxy의 효과

PTB7의 매우 높은 용성 때문에 제조 중에 영화가 EE1 EEEE1 유유유체 형태로 액체 형태로 연락할 때 장기간간 동안 PTPTBPTB7의 매우 높은 용용성으로 인해 영화가 색깔이 변했다는 것을 주목했습니다.상단 음극 아래의 활성 영역을 검사하면 에포кси가 경화하기 전에 활성 영역으로 渗透하지 않았음을 나타내고 장치 지표는 이것이 성능에 영향을 미치지 않았음을 나타냅니다.그러나 UV 경화하기 전에 에포кси와 PTB7 필름 사이의 접촉 시간을 최소화하는 것이 좋습니다.

제조

기판 및 청소

• 픽셀화된 양극 기판 (S173)
• 뜨거운 Hellmanex III에서 5 분 초음파 (비커에 1 ml)
• 2x 2x 2x 2배 2222222x 2222x 2222x 2222x 2222배 222x 22x 2x
• 따뜻한 IPA에서 5 분 초음파
• 2x 2x 2x 222x 22222x 2222x 2222x 2222x 22222x 222x 2x 2
• 뜨거운 NaOH에서 5 분 초음파
• 물에 물물에 물물물물에 물물물물에 물물물에 물물물에
• DI 물에 밤새 및 사용까지 저장

PFN 솔루션

• 2mg/ml에서 용해
• 주식 솔루션을 만들기 위해 메탄올에 있는 1:9를 용해한 아세트산
• 용액에 추가된 아세틱 2μl/ml
• 30 분 동안 혼동
• 0.45 μm PVDF 필터를 통해 필터링

PFN 시험 필름

• PFN 시험 필름은 처음에는 500 rpm에서 회전하고 20 nm를 주었습니다.
• 두 번째 시험 필름은 1000 rpm에서 회전하고 16 nm를 주었습니다.
• 두께는 6000 rpm에서 6.5 nm로 추산되었습니다.

활성 층 솔루션

• CB에서 10 mg/ml에서 만들어진 PTB7 (Ossila M211)의 신선한 스토크 솔루션 및 1 시간 동안 stirbar로 용해
• 건조한 Ossila 99% C70 PCBM와 혼합된 1:1.5는 25 mg/ml의 전체 농도를 만들고 1 시간 동안 stirbar로 용해합니다.
• 1,8 Diiodooctane의 오래된 주식 솔루션은 CB와 함께 1:1을 혼합하여 작은 양을 측정하는 것을 쉽게 합니다
• DIO/CB 혼합물을 용액에 추가하여 전체 DIO 양을 3%로 제공합니다.

활성 층 테스트 필름

• 시험 필름은 필터링되지 않은 솔루션을 사용하여 2 분 동안 1000 rpm에서 회전하고 Dektak의 앞에 메탄올을 사용하여 건조합니다.
• 1000 rpm는 approximay 85 nm를 주었습니다.

활성 레이어

• 30 μl 동적 분배를 사용하여 회전된 장치 (20 μl은 적당한 습도 / 커버지만 제공했습니다)
• 비 메탄올 장치는 2 분 동안 회전
• 메탄올 장치는 30 초 동안 회전되고, 정적 분배로 50 μl 메탄올로 코팅되고 30 초 동안 2000 rpm에서 회전됩니다.
• CB로 cathode wiped
• 20 분 동안 glovebox antichamber에서 진공으로 건조

증발

주말에 방에 남아 아래 매개 변수로 증발했습니다.

• 15 nm MoO는_xat 0.2 Å/s
• 100 nm Al에서 1.5Å/s
• 입금 압력

캡

• 표준으로 Ossila EE1, MEGA LV101에서 30 분 UV 사용

측정

• Keithley 237 소스 미터와 함께 가진 JV JJV 스제제제어
• 100 mW/cm의 Newport Oriel 9225-1000 태양 시뮬레이터의 조명²AM1.5 출력
• 교정에 사용되는 NREL 인증 실리콘 참조 셀
• 램프 현재: 7.8 A
• 시험 시작시 태양광 출력: 25°C에서 1.00 태양
• 테스트 끝에 태양광 출력: 25°C에서 1.00 태양
• 공기 냉각 기판
• 시험 시작시 실온: 25°C
• 시험 끝에 실온: 25°C
• 크기 0.256 mm의 교정 diaphragm 마스크²

표준 (반환되지 않은) 참조 장치

참조 장치는 Ossila 표준 기판과 재료를 사용하여 비교 측정을 위한 표준화된 아키텍처를 사용하여 배치 M211에서 만들어졌습니다.이들은 아래 구조로 구성되어 있으며 주변 조건에서 이이이를 이이이이용하고 측정하기 전에 비활성 대기 (글로브박스) 아래에서 제조되었습니다.

유리 / ITO (100 nm) / PEDOT: PSS (30 nm) / PTB7: PC₇₀BM (변수) / Ca (2.5 nm) / Al (100 nm)

일반적인 자세한 내용은 제조 가이드 및 비디오를 참조하십시오.특정 내용은 아래 특특정 압축 제조 보고서와 다층 스택의 광학 모델링 및 최적화에 대한 자세한 내용을 제공하는 Watters et al. [3]를 참조하십시오.

이 표준 참조 아키텍처에서 최적화된 두께를 위해 6.8%의 최고 효율성으로 평균 PCE를 6.6%로 달성했습니다.다른 최적화 (혼합 비율, DIO 농도, 건조 조건 등) 이 수행되지 않았으며, 따라서 이러한 조건을 변화시키고 대체 인터페이스 재료 [1,2]를 사용하여 얻은 중요한 개선을 통해 추가 작은 개선을 얻을 수 있습니다.

그림 3: 다른 스핀 속도에서 표준 아키텍처 장치의 PCE, Jsc, Voc 및 FF.표시된 데이터는 가득 차있는 원으로 Max 및 Min 오버레이드 된 평균입니다 (Dektak 측정에 대한 참고 참조하십시오).이전에 보고된 것처럼 [1,2,3], 약 90 nm의 필름은 더 큰 Jsc와 채우기 요인에서 작은 손실만으로 가장 높은 성능을 제공합니다.

그림 4: 최고의 성능을 가진 장치의 JV 곡선 - 표준 아키텍처.

참고 1:Dektak 두께 교정

우리는 일반적으로 우리는 우리는 우리는 우리는 Dektak 표면 프로파일러를 사용하여 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 일반적으로 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 일반적인 조건에서 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 일반적인 조건에서 완전히 건조하기 위해 몇 시간이 걸릴 수 있기 때문에 DIO를 사용하여 우리는 우리는 일반적으로 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는 우리는DIO는 또한 80 ° C에서 약 10 분 동안 빠빠빠른 측정을 수행하는 데 유용할 수 있지만 또한 중합체와 PCBM 사이의 과도한 단계 분리를 구동하여 장치 작업에 적합하지 않게 만드는 뜨거운 플레이트에 기판을 DIO를 DIO를 제거할 수 있습니다.

참고 2:Epoxy의 효과

PTB7의 매우 높은 용성 때문에 제조 중에 영화가 EE1 EEEE1 유유유체 형태로 액체 형태로 연락할 때 장기간간 동안 PTPTBPTB7의 매우 높은 용용성으로 인해 영화가 색깔이 변했다는 것을 주목했습니다.상단 음극 아래의 활성 영역을 검사하면 에포кси가 경화하기 전에 활성 영역으로 渗透하지 않았음을 나타내고 장치 지표는 이것이 성능에 영향을 미치지 않았음을 나타냅니다.그러나 UV 경화하기 전에 에포кси와 PTB7 필름 사이의 접촉 시간을 최소화하는 것이 좋습니다.

제조

기판 및 청소

• 픽셀화된 양극 기판 (S173)
• 뜨거운 Hellmanex에서 5 분 초음파 (비커에 1 ml)
• 2x 2x 2x 2배 2222222x 2222x 2222x 2222x 2222배 222x 22x 2x
• 따뜻한 IPA에서 5 분 초음파
• 2x 2x 2x 222x 22222x 2222x 2222x 2222x 22222x 222x 2x 2
• 뜨거운 NaOH에서 5 분 초음파
• 물에 물물에 물물물물에 물물물물에 물물물에 물물물에
• DI 물에 밤새 및 사용까지 저장

PEDOT: PSS 층 준비

• Clevios AI 4083는
• Whatman 0.45 μm PVDF 필터를 사용하여 병에 필터링
• 30 초 동안 6000 rpm 회전 (30 nm)
• 피터를 사용하여 20 μl의 동적 분배
• IPA 카소드 스트립 지우고 라벨
• 160°C에서 열판에 직접 넣으십시오.
• 모든 샘플이 회전되면 글로브박스로 전송됩니다.
• 1 시간 동안 150°C에서 glovebox에서 구워

활성 층 솔루션 준비

• CB에서 10 mg/ml에서 PTB7의 신선한 스토크 솔루션을 용용용해하도록 CB에서 CB에서 10 mg/ml에서 진동
• 25 mg/ml의 전체 농도를 만들기 위해 건조한 Ossila 99% C70 PCBM와 혼합된 1:1.5
• 1,8 Diiodooctane는 작은 양을 측정하기 위해 CB와 1:1를 혼합했습니다.
• DIO/CB 혼합물을 용액에 추가하여 전체 DIO 양을 3%로 제공합니다.

활성 층 스핀 주조

• 25μl 동적 분배를 사용하여 2분 동안 회전하는 장치
• 클로로벤클렌으로 클클로로로벤클클렌으로 클클로로로벤클클렌클클로로로벤클클렌클렌클로벤클클로로벤클클렌클로
• 2 시간 동안 장갑 박스에서 건조하도록 왼쪽으로 남았지만 색상은 아직 약간 그그그그대가 그그그대가 그그대가 여전히 약간 그그장장장장갑 박스에서 건조하
• DIO를 제거하기 위해 10 분 동안 glovebox antichamber에서 진공으로 건조

증발

주말에 방에 남아 아래 매개 변수로 증발했습니다.

캡

• 표준으로 Ossila EE1, MEGA LV101에서 30 분 UV 사용

측정

• Keithley 237 소스 미터와 함께 가진 JV JJV 스제제제어
• 100 mW/cm의 Newport Oriel 9225-1000 태양 시뮬레이터의 조명²AM1.5 출력
• 교정에 사용되는 NREL 인증 실리콘 참조 셀
• 램프 현재: 7.8 A
• 시험 시작시 태양광 출력: 25°C에서 0.99 태양
• 테스트 끝에 태양광 출력: 25°C에서 1.00 태양
• 공기 냉각 기판
• 시험 시작시 실온: 21°C
• 시험 끝에 실온: 21°C
• 크기 0.256 mm의 교정 diaphragm 마스크²