대형 데스크탑 열원자층 퇴적 시스템 ALD

열원자층 퇴적 기술은 면적이 도달할 수 있다37 평방 센티미터

대형 데스크탑 열원자층 퇴적 시스템

· 37제곱센티미터 평면용 알루미늄 캐비티(2세대 유형)

· 6개의 6인치 웨이퍼 또는 4개의 8인치 웨이퍼에 적합하며 균일성이 우수합니다 (기타 웨이퍼 크기는 사용자 정의 가능).

· 4포트 가열 전 보디 파이프라인 (사용자 정의 가능)

·내장된 고출력 코일 히터를 사용하여 챔버 가열을 진행하며, 최고 온도는 275 °C에 달한다.

· 직접 제어 및 원격 노트북 제어 기능이 통합된 PLC/휴먼 컴퓨터 인터페이스 시스템

· 고노출(정적) 성장 모드 옵션에 적용할 수 있는 내장 챔버 마감 밸브와 MFC를 이용한 신속 대응 시나리오 가스 청소 유량 제어 장치

· 모든 하드웨어 및 소프트웨어는 Semi-S2 및 NFPA-79 가이드를 준수합니다.

· Semi S2 준수

· 슬로우 흡입 진공 옵션 추가

· 실시간 피드백 및 펄스 주기 제어 기능을 갖춘 전구체 온도 모니터링 옵션

· 무게 추적을 위해 LCD 디스플레이가 있는 가연성 가스 탱크 옵션

ALD 장치의 작동 방식

원자층 퇴적 (ALD) 시스템은 전구체 소스 및 그 반응물 밸브, 온도 제어 플랫폼 (또는 클램프) 이 있는 반응 챔버, 불활성 가스 및 진공 시스템 (또는 청소 시스템) 등 몇 가지 핵심 구성 요소로 구성되어 있다.이 과정은 전구체와 반응물 도입을 번갈아 진행하며 한 번에 한 가지만 도입하고 그 사이에 청소 절차가 있다.이렇게 하면 전구체가 기상에서 반응하는 것을 방지할 수 있어 표면의 특정한 반응만 할 수 있다.그 결과 매 순환마다 단분자침적이 형성되여 원자척도에서 박막의 생장에 대한 통제를 실현하였다.이 반응은 전구체가 표면에 반응하고 사용 가능한 활성 비트 (산화물, 히드록시 등) 를 채우면 더 이상 반응을 계속할 수 없다는 것을 의미하는 자한성을 가지고 있다.

앤릭 기술 회사개발된 데스크탑 원자층 퇴적 시스템은 조작이 간편하고 유지보수가 용이하며 우수한 방열 관리 기능, 맞춤형 플라즈마 소스 및 소프트웨어 구동 자동화 기능을 갖추고 있어 열증강형과 플라즈마 증강형 원자층 퇴적 공정을 지원할 수 있다.이 도구는 장갑 상자와 호환되는 실험용 장비에서 완전한 12형 웨이퍼 시스템에 이르기까지 확장성이 뛰어나며 공정 안정성, 사용 편의성을 극대화하고 다양한 실험실 환경에 통합하도록 설계되었습니다.

응용 분야

앤릭 기술 회사ALD 기술은 차세대 반도체, 에너지 저장 장비, 광전자 부품 및 생체 적합성 재료 발전의 중요한 기반입니다.나노 구조를 균일하게 덮어쓸 수 있는 특성은 다음 영역에서 매우 중요합니다.

·그리드 개전층과 차단층에 사용되는 마이크로전자학 및 마이크로컴퓨터 시스템 기술

·전극 및 전해질 코팅을 위한 솔리드 스테이트 배터리 및 슈퍼 커패시터

·래스터, 렌즈 및 광자 구조의 광학 코팅

·촉매 작용과 연료 전지의 개발, 그 중 원자층 퇴적 기술은 통제 가능한 표면 변성을 실현할 수 있다

·내식성 과 생체 타성 의 박막 을 갖춘 생의학 설비 가 필요 하다

·분해가 쉬운 재료의 표면 둔화와 포장 처리

이 산업이 더 작고, 더 빠르고, 더 효율적인 장비 방향으로 발전함에 따라 원자층 퇴적 기술의 중요성도 날로 커지고 있다.

고객 사례

* 100 개 이상의 사용자, 중복 구매한 사용자:

♢ 하버드 대학

♢ 헬싱키 대학교 (Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen)

♢ 범림그룹(LAM)(6대 이상)

♢ 옥스퍼드 대학교 (2대 이상, Prof Sebastian Bonilla)

♢ 국립재료과학연구소 (일본, 여러 대)

♢ 도쿄 대학 (여러 대)

♢ 와세다 대학 (여러 대)

♢ 노스웨스턴 대학교 (미국)

♢ 케임브리지 대학교 (영국)

♢레스 대학

♢ 영국령 컬럼비아 대학교 (캐나다)

♢ ENS-Paris(프랑스, 고등사범대학)

♢ 北京量子研究院

♢ 북경대학

♢ 브리스톨 대학교 (영국)

셰필드 대학교 등등

반복 구매 고객의 구체적인 어플리케이션

1.와세다 대학 (Waseda University) (일본 도쿄) - 센서, 표면 변성, 나노 압인 광각, * 통공 제조 (AIST) - 일본 이바라키 현

2.와세다 대학 (Waseda University) (일본 도쿄) – 시스템 #2;유사 응용.일본 가나가와현 요코하마국립대학(Yokohama National University)

3. 국립재료과학연구소(NIMS) #1(일본 이바라키현) - 표면과 박막 속의 성자;원자척도 저차원 이격원학;나노 재료 중의 자전 궤도 분열

4. 국립재료과학연구소(NIMS) #2(일본 이바라키현) - 탄소나노튜브에서의 자선 관련 수송;나노 클리어런스 제조 및 분자 수송;그래핀의 틈새 공정;유기 트랜지스터

5. 프라이빗 컴퍼니(Private Company)(미국 오레곤주 포틀랜드) - TEM 샘플 제조;HfO2, Al2O3, Ta2O5

6. Precision TEM (미국 캘리포니아주 산타클라라) - TEM 샘플 제조;HfO2, Al2O3

7. 개인회사 TK(Private Company TK)(일본 미야기현) - TEM 샘플 제조

8. 개인회사(Private Company)(미국 오레곤주 포틀랜드) - TEM 샘플 제조;HfO2, Al2O3, Ta2O5

9. 도쿄 대학 (University of Tokyo) (일본) – * ALD 공정

10. 도쿄대학교(University of Tokyo) – 일본 도쿄 – Dr. Onaya

11. 범림그룹(LAM Research) – 미국 오레곤주 투알라틴(Tualatin)

12.범림그룹 (LAM) 시스템 #2 – 미국 오레곤주 투와라틴

13. 범림그룹(LAM) 시스템 #3 – 미국 오레곤주 투바라틴

옥스퍼드 대학교 (University of Oxford) – 영국 옥스퍼드 - Prof Sebastian Bonilla

15.도쿠시마 대학 (Tokushima University) (일본)

헬싱키 대학교 (University of Helsinki) (핀란드) Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen

17. 응용재료회사(AMAT - Applied Materials) - 미국

옥스퍼드 대학교 (University of Oxford) (영국 옥스퍼드)