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안휘성 합비시 고신구 명주대로 198호 성몽원 창업원 G6동 201
안휘 흡수 스펙트럼 기기 설비 유한회사
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안휘성 합비시 고신구 명주대로 198호 성몽원 창업원 G6동 201
모델 HC-XAFS-T
열촉매 원위치 풀열촉매 실험에서 전극 재료의 구조 변화를 연구하기 위해 설계된 것이다.작동 전극(WE)은 투시 창에 배치되어 X선이 작동 전극을 관통할 수 있도록 합니다.
● 이 장치의 본체는 고강도 강철 구조로 800oC 고온과 1~3MPa의 고압에 견딜 수 있다 (소창을 배치하면 더 높은 압력을 실현할 수 있다).
● 1 ℃ 의 정확한 온도 조절을 실현한다;
● 이 기본 풀은 투사 모드 기본 XAFS 테스트에 사용할 수 있습니다.
● 계단식 온도 상승을 유연하게 제어하고 각종 반응 분위기를 통해 온도 상승 조건에서의 물상 변화를 실시간으로 모니터링할 수 있다;
● 광창 지름: 13mm; 광학 창 선택 Be창;샘플 조각은 분말 모양의 원판입니다.
● 순환냉각장치를 장착하여 순환수온을 25oC로 제어한다.