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히타치 하이테크 이온 연마 장치 IM4000

협상 가능업데이트07/29
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개요

히타치 하이테크 이온 연마 장치 IM4000의 주요 특징: 1.단면 가공 또는 평면 연마가 가능합니다.2. 가공 효율이 높고 단면이 약 500μm/h이다.3. 프로그램 제어 간헐적 가공;4. 냉방 기능을 통해 열을 쉽게 손상시킬 수 있다...

제품 정보

히타치 하이테크 이온 연마 장치 IM4000


주요 특징:日立高新离子研磨装置IM4000

1. 단면 절단이 가능하며 평면 연마도 가능합니다.

2. 가공 효율이 높고 단면이 약 500μm/h이다.

3. 프로그램 제어 간헐적 가공;

4. 냉방 기능을 통해 열에 손상되기 쉬운 샘플을 가공할 수 있다

응용 분야:

1.LED,PCB 등 반도체 업종;

2.셰일가스;

3.고분자 재료

日立高新离子研磨装置IM4000
블레이드 절단 방식 샘플링 IM4000 plus 이온 연마 단면 절단
샘플: 컬러 용지 단면 (다중 레이어 구조)
확대 배율: 1만 배

日立高新离子研磨装置IM4000
냉연마 안 하고 냉연마 했어요.
샘플: 리튬이온 배터리 분리막 단면
확대 배율: 2만 배

日立高新离子研磨装置IM4000
기계식 광택 처리 후 IM4000 plus 이온 연마 평면 처리
샘플: 금선 용접부 단면
확대 배율: 1만 배