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상해 민행구 원강로 5500호
제품 카테고리
Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
개요
브랜드: Elionix$r$n$r$n$r$n$r$n 모델: ELS-F125/F100/HS50$r$n$r$n$r$n$r$n 전자빔 노출, 전자빔 직사, 전자빔 광각 $r$n$r$r$r$r$n 용도: 전자빔을 이용하여 부식성 방지제에 나노 레벨 패턴을 작성하여 정밀 및 ELB 아키텍처를 통해 사용할 수 있습니다.
제품 정보
소개
ELS-F125는 Elionix가 출시한 가속 전압이 125KV에 달하는 전자빔 노출 시스템 중 하나로, 선가중치 하한선이 5nm인 정교한 그래픽을 가공할 수 있다.(다음 매개변수는 ELS-F125 기반임)
ELS-F125는 다음과 같은 이점을 제공합니다.
l 초고서적 정밀도
- 5nm 선가중치 정밀도 @ 125kV
- 1.7nm 빔 지름 & 근접 효과 최소화@ 125kV
l 높은 통량, 균일성
- 초시야 쓰기: 500um 시야에서 10nm 선가중치
- 하이빔 흐름 아래 빔의 지름은 여전히 작고 해상도에 영향을 주지 않고 높은 통량, 2 nm 빔의 지름 @ 1 nA
l 인터페이스 사용자 친화적
Windows 시스템 기반 CAD 및 SEM 인터페이스:
- 사용이 간편한 패턴 디자인 기능
- 제어가 용이한 빔 조건
2. 주요 기능
l 주요 응용 프로그램
나노 부품의 미세 구조
집적 광학 부품 (예: 래스터, 광자 결정 등)
NEMS 패브릭, 복잡하고 정교한 패브릭
광각 마스크 템플릿, 압인 템플릿
l 기술력
