화학 기계 포광액 제조 설비

협상 가능업데이트05/07

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제조업체의 성격: 생산자

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개요

화학기계 광택액 제조설비는 주로 CMP(화학기계 광택액)(산화규소 나노입자 기반 광택액, 산화세륨 나노입자 광택액, 탄화규소 화학기계 광택액, 산화알루미늄 체계와 실리콘 용접체계의 초정밀가공류 화학기계 광택액 포함)의 분산과 각종 마이크로나노재료, 신에너지재료, 무기난연제 등의 파쇄, 분산, 등급, 변성 등에 사용된다.

제품 정보

화학 기계 포광액 제조 설비주로 CMP(화학기계포광액)(산화규소 나노입자에 기반한 포광액, 산화세륨 나노입자의 포광액, 탄화규소 화학기계포광액, 산화알루미늄체계와 실리콘용접체계의 초정밀가공류 화학기계포광액 포함)의 분산과 각종 마이크로나노재료, 신에너지재료, 무기난연제 등의 파쇄, 분산, 등급, 변성 등에 사용된다.

화학 기계 광택 액체 제조 장비의 특징:

테스트를 거친 공정 노선은 이미 양산을 실현하였다.

지능형 제어, 실시간 모니터링, 전체 데이터 저장, 직관적인 차트 표시

회전 속도 조절 가능, 온도 조절 가능, 초음파 강도 조절 가능, 타이밍 가능

조작이 편리하고 간결하며 세척이 쉽다

기술 매개 변수:

항목	실험형실험유형	생산형생산유형
온도온도（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
분산방식분산유형	연속식연속	연속식연속
소재재료 품질	유리、스테인리스강, 티타늄유리또는 스테인리스 스틸	스테인리스강, 티타늄스테인리스강철
규격명세	용적에 따라볼륨에 따라 달라집니다.	定制주문을 받아서 만들어진
트래픽유량	50~1000ml/분	사용자 정의 가능주문을 받아서 만들어진
매체 점도미디어 점도	≤104cP는	≤104cP는
섞다회전속도진동 속도	500~3000rpm실제 요구 사항에 따라 선택	500~3000rpm실제 요구 사항에 따라 선택
잘라내기회전속도진동 속도	1400~20000rpm실제 요구 사항에 따라 선택	1400~12000rpm실제 요구 사항에 따라 선택
전원전력	220V/50Hz의	220V/50Hz、380V/50Hz의
초음파 전력초음파 전력	200~3000W	定制주문을 받아서 만들어진
초음파 주파수초음파주파수	20KHz의、28KHz의、40KHz의、68KHz의	20KHz의、28KHz의、40KHz의、68KHz의
표시 방법전시 모델	디지털 디스플레이, LCD 터치스크린디지털전시, LCD터치 스크린필요에 따라 선택 가능	LCD 터치스크린LCD 터치 스크린
기타다른	온도,전력 조절 가능온도、전력 조정

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