화학 기계 광택액 생산 라인

NP-CMP는화학기계포광액 생산라인주요 용도CMP(화학기계포광액）（산화규소 나노입자에 기반한 광택액, 산화세륨 나노입자의 광택액, 탄화규소 화학기계 광택액, 산화알루미늄 체계와 실리콘 용접 체계의 초정밀 가공류 화학기계 광택액을 포함한다)의 분산및 각종 마이크로나노소재, 신에너지소재, 무기난연제 등의 파쇄, 분산, 등급별, 변성 등.

화학기계포광액 (CMP 포광액) 생산라인은 혼합, 분산, 연마 및 균등화 포광액의 각 성분 (예: 연마재, 화학시약, 분산제 등) 에 사용되는 전용 설비로 체계가 안정적이고 뭉치지 않으며 성분이 균일하도록 하는 것이 핵심이다.

핵심 장치 구성 (제조 프로세스별)

1.예비혼합설비: 주로 **고속교반탱크 **를 사용하여 화학시약 (예: 산화제, pH조절제) 과 용제 (일반적으로 이온제거수) 를 초보적으로 혼합하여 균일한 액상체계를 형성하고 후속연마재를 첨가하기 위해 준비한다.

2. 분산 연마 설비:

- 하이 커팅 분산기: 고속으로 회전하는 로터와 정자를 통해 강한 커팅력을 발생시켜 연마재(예를 들면 SiO, Al₂O)의 초기 폴리머를 흩뜨리는 광택액의 분산성을 보장하는 핵심 설비이다.

- 샌드 그라인더/볼 그라인더: 고경도 또는 뭉치기 쉬운 그라인더를 위해 지르코늄 구슬과 같은 매질의 충돌, 마찰을 통해 그라인더의 입경을 목표 범위 (일반 나노 레벨) 로 세분화하고 균일성을 더욱 향상시킵니다.

3. 균일 및 필터 장치:

- 초음파 분산기: 미세 폴리머를 타파하는 것을 보조하며, 특히 나노급 연마재의 최종 분산에 적합하여 광택액의 안정성을 높인다.

- 정밀 필터: 마이크로미터급 또는 마이크로미터급 필터를 사용하며, 필터 체계의 큰 입자 불순물 또는 흩어지지 않은 폴리머를 사용하여 광택 시 웨이퍼 등 공작물을 긁지 않도록 한다.

4. 혼합 및 저장 장치:

- 정적 혼합기: 자재 수송 과정에서 효율적인 혼합을 실현하여 국부적인 성분의 불균등을 피한다.

- ** 청정 액체 저장 탱크 **: 믹서, 온도 제어 및 먼지 방지 기능을 갖추고 있으며, 제조가 완료된 광택액을 저장하여 층이나 오염을 방지한다.

핵심 기술 요구 사항

- 고결도: 장비 내부 벽은 금속 이온이나 불순물이 광택을 오염시키지 않도록 316L 스테인리스 스틸 또는 PTFE 재질과 같이 매끄럽고 부식에 강해야 합니다.

- 정확한 온도조절: 일부 화학성분을 혼합할 때 열을 방출할 수 있으므로 클램프 수냉 또는 가열시스템을 통해 온도를 조절하여 성분의 변질이나 연마재의 뭉침을 방지해야 한다.

- 매개 변수 제어 가능: 분산 속도, 연마 시간, 교반 속도 등 매개 변수는 서로 다른 조제 포광액의 제조 수요에 맞게 정확하게 조절할 수 있어야 한다.

NP-CMP는화학기계포광액생산 라인생산 라인테스트를 거친 공정 노선은 이미 양산을 실현하였다.

지능형 제어, 실시간 모니터링, 전체 데이터 저장, 직관적인 그래프, 표

회전 속도 조절 가능, 온도 조절 가능, 초음파 강도 조절 가능, 타이밍 가능

조작이 편리하고 간결하며 세척이 쉽다