대기 플라즈마 세척기

협상 가능업데이트07/10

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개요

JWD-1000ZP 대기 플라즈마 세척기는 상압 저온 건식 표면 처리 설비로 진공 환경 없이 플라즈마 활성 입자를 이용하여 재료 표면의 기름때, 분진, 유기 불순물을 빠르게 제거한다.표면의 부착력을 높이고 접착 스프레이 효과를 강화하며 기재를 다치지 않고 친환경적으로 소모품이 없습니다.

제품 정보

1. 제품 소개:

JWD-1000ZP는대기 플라즈마 세척기, 이 돈대기 플라즈마 세척기상압 저온 건식 표면처리 설비를 위해 진공 환경 없이 플라스마 활성 입자를 이용하여 재료 표면의 기름때, 분진, 유기 불순물을 빠르게 제거한다.표면의 부착력을 높이고 접착 스프레이 효과를 강화하며 기재를 다치지 않고 친환경적으로 소모품이 없습니다.금속, 플라스틱, 유리, PCB 등 재질에 적합하고 자동화생산라인을 빈틈없이 도킹할수 있으며 전자, 자동차, 신에너지, 의료 등 업종에 널리 사용되여 고효률적으로 원가를 낮추고 질을 제고할수 있다.

大气等离子清洗机

2. 원리 소개

공예 기체에 전장을 가하여 이온을 플라즈마로 만들다.플라즈마의"활성"조분에는 이온, 전자, 원자, 자유활성기단, 자극상태의 핵소 (아안정상태), 광자 등이 포함된다.플라즈마 처리는 이러한 활성 성분의 성질을 이용하여 산화, 환원, 분해, 교련과 중합 등 물리적, 화학적 반응을 진행하여 샘플의 표면 성질을 변화시킴으로써 재료의 표면 성능을 최적화하고 청결, 변성, 각식 등의 목적을 실현하는 것이다.

3. 계기구조

大气等离子清洗机

대기 플라즈마 세척기 구조: 고압 전원 발생기와 플라즈마 발생 장치 분무기로 구성되어 있다.

4. 계기 파라미터

JWD-1000 전원 사양 매개변수
번호	유목	파라미터	비고
1	입력 전원	단상 220V/AC, 50/60Hz, 10A	지선<4º
2	가스 공급원 입력	CDA/N2(0.13-0.4Mpa) 흡기관 지름: Φ8	기름도 물도 없다
3	출력	600-1000W(최대 1300W 지원)	분무기 사용에 따라 결정하다
4	처리 너비	20-90MM	분무기 사용에 따라 결정하다
5	스위치 주파수	25 ~ 50KHZ	짧은 간격으로 장비 안정성 저하
6	작업 환경 온도	10~50℃	없음
7	폼 팩터 (mm)	L480 × W365 × H180mm	외관 치수도를 구체적으로 보다
8	전원 공급 장치 무게	15KG의	없음
9	공간 구성	통풍이 잘되어 좌우에 200mm 이상의 열 방출 공간이 있고 후방에 200mm의 선로 공간이 있다