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instrumentb2bNanoscribe, 새로운 산업용 고정밀 마스크 없는 포토레지스트 발표

새로운 Quantum X Shape:
고정밀도, 생산성, 경험의 재정의

새로운 Quantum X shape 시스템은 Nanoscribe 산업용 마스크 없는 포토레지스트 시스템인 Quantum X 플랫폼 제품 시리즈의 두 번째 장비로서 현재 25cm² 면적에 어떠한 구조도 인쇄할 수 있어 생명과학, 마이크로유체, 재료공학에서 복잡한 응용의 빠른 원형 제작을 크게 추진하고 있다.퀀텀 X 쉐이프는 포토레지스트 자동 분배 기능을 갖춘 직립식 프린팅 시스템으로 표준 6인치 웨이퍼 산업 대량 가공 제조에 적합하다.

Nanoscribe가 출시한 새로운 고정밀 3D 프린팅 시스템인 Quantum X shape는 과학 연구 및 산업 생산 분야에서 3D 마이크로 나노 가공의 잠재력을 충분히 발굴하기 위해 빠른 프로토타입 제작 및 웨이퍼급 대량 생산에 사용됩니다.이 시스템은 듀얼 광자 중합 기술(2PP) 기반의 전문 레이저 직사 시스템으로 마이크로미터 정밀도의 2.5D와 3D 물체의 마이크로 납 가공에 *의 설계 자유도를 제공한다.Quantum X shape는 현재 6인치 웨이퍼에서 고정밀 3D 미나 가공을 할 수 있습니다.이러한 효율의 향상은 웨이퍼급 대량 생산에 특히 중요하며, 이는 과학 연구와 공업 생산 분야의 응용에 중대한 의의를 가진다.결론적으로, 이 시스템은 생명 과학, 재료 공학, 마이크로 유체, 마이크로 나노 광학, 마이크로 기계 및 마이크로 전자 기계 시스템 (MEMS) 등과 같은 여러 과학 연구 분야와 산업 산업에서 3D 마이크로 나노 가공이 응용 될 수있는 더 많은 가능성을 넓혔습니다.

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최고 정밀도 제작 3D 미나 가공 기술 구현

이중 광자 중합 (2PP) 은 최고 정밀도와 * 설계 자유도를 실현할 수 있는 증재 제조 방법이다.동급 최고의 3D 마이크로 머시닝 시스템인 Quantum X shape는 다음과 같은 우수한 성능을 제공합니다.

  • * 나노미터 및 마이크로미터급 인쇄를 위한 모든 공간 방향에서 100나노미터 미만의 피쳐 크기 제어

  • * 중간 크기 인쇄를 위한 최대 50mm의 타겟 구조 제작

균형 정밀도와 속도를 최적화하여 생산량 증대

고속 3D 미나 가공 시스템인 Quantum X shape는 우수한 형상 정밀도와 고정밀 제작을 구현합니다.이런 고품질의 인쇄효과는 첨단과학기술진경시스템과 지능전자시스템제어단위를 결합한 결과이며 동시에 공업급 비초펄스레이저 및 평온하고 견고한 화강암조작플랫폼을 떠날수 없다.Quantum X shape는 진동 렌즈가 최적의 스캔 속도로 가속 및 감속되고 1 MHz 변조 속도로 레이저 출력을 동적으로 조정하는 레이저 초점 궤적 제어를 제공합니다.

Quantum X shape에는 *의 자동 인터페이스 찾기 기능이 있어 30nm 이하의 정밀도로 기판 표면을 감지할 수 있습니다.이러한 최고 스캐닝 속도에서의 나노급 정밀도 구현에 자체 교정 절차를 더하면 가장 짧은 시간 내에 신뢰할 수 있고 정확한 인쇄를 실현할 수 있어 3D 마이크로 나노 가공에 새로운 지평을 열었다.이러한 우수한 성능으로 Quantum X Shape는 마이크로 나노 옵티컬 제작과 응용을 위한 빠른 프로토타입이 되었습니다.

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Nanoscribe 마이크로 나노 가공 기술을 사용하여 제작된 3D 마이크로 핀은 높은 종횡비, 모양 정밀도 및 날카로운 가장자리의 다양한 디자인 변화를 쉽게 구현합니다.

최상의 경험을 위한 단순하고 효율적인 워크플로우

포토메트릭 수지의 자동 분배 기능은 웨이퍼급 가공과 소량 생산의 공업 제조에 매우 중요하다.또한 장치의 통합 터치 스크린을 통해 Quantum X shape 인쇄 시스템에 직접 또는 원격으로 액세스하여 인쇄 작업을 제어할 수 있습니다.소프트웨어 nanoConnectX에 원격으로 액세스하여 사용자는 터치 스크린의 디스플레이 옵션을 보고 모든 기능을 조작하여 어디서나 인쇄 시스템에 연결된 인쇄 작업 프로세스를 시작, 모니터링 및 제어할 수 있습니다.따라서 전체 그룹 구성원 (예: 연구 그룹 상품 부서의 모든 구성원) 이 개인용 컴퓨터에서 인쇄 시스템에 액세스할 수 있습니다.랩 준비 시간을 최소화하고 전체 제조, 실행 및 인쇄 작업의 효율성을 단순화하고 향상시키며 시스템을 공유할 때 팀워크를 크게 향상시킬 수 있습니다.

3D 마이크로 나노 가공의 새로운 세력이 미래 과학 기술을 돕다

Quantum X shape는 단순한 워크플로우를 통해 최고 정밀도와 높은 설계 자유도를 제공하는 이상적인 빠른 성형 제작 도구입니다.2019년 첫 듀얼 광자 회색조 포토레지스트(2GL)®) 시스템 Quantum X의 같은 시리즈 제품인 Quantum X shape는 높은 수준의 생산성과 인쇄 품질을 위해 정밀도와 속도를 크게 균형 있게 조정하여 고정밀 증재 제조를 실현하는 3D 마이크로 나노 가공 능력을 향상시킵니다.결론적으로, 산업용 Quantum X 인쇄 시스템 시리즈는 웨이퍼급 대량 가공을 위한 나노에서 중관 크기 구조로의 미세 제조 공정을 제공합니다.

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