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instrumentb2bNanoscribe 새로운 바이오 호환 탄성체 포토레지스트

나노스크리브사는 탄성체 3D 자유곡면 구조를 제작할 수 있는 듀얼 광자 중합(2PP) 프린팅 소재의 새로운 IP-PDMS 포토레지스트를 선보였다.새로운 IP-PDMS 포토레지스트가 제공하는유연성, 유연성, 탄력성 및 생체 호환성일반적인 탄성체 소재 특성의 적용에 의존하기 위해 맞춤형으로 제작되었습니다.따라서 이 광민수지 재료는3D 프린팅 세포 브래킷 및 조직 공학, 3D 구조 표면, 미세 흐름 제어 장치 및 마이크로 전기 시스템 (MEMS) 과 같은 미래의 다양한 분야에 널리 적용기다려.IP-PDMS는 Nanoscribe의 3D 마이크로 나노 가공 시스템에 최적화되었으며 3D 마이크로 나노 가공에서 스케일 솔루션과 호환됩니다.

IP-PDMS 포토레지스트 특징:

· 양씨 계량은 IP-S보다 세 단계 낮음, 15.3MPa

· 고탄성 특징, 단열 스트레칭 신장률 240% 초과

· 낮은 굴절률 특징

· ISO 10993-5 / USP 87에 따른 생물학적 독성 없음

· 고유인성 재료, 다양한 응용에 널리 적용

왼쪽 사진: 라이프니츠 신소재 연구소의 압력 저항 강도 테스트

독일 레브니즈 신소재 연구원 (Leibniz INM, Institute for New Materials, Saarbrücken)의 René Hensel 박사는"Nanoscribe가 직접 3D 프린팅할 수 있는 IP-PDMS 포토레지스트는 미시적인 모습을 가진 기능성 표면을 만드는 데 적합하다.시간이 많이 걸리는 플라스틱 부분을 생략할 수 있고, 곧 설계를 탄성체 재료로 뒤집을 수 있으며, 이 새로운 방식은 더 많은 새로운 설계를 가능하게 한다.'

유기실리콘 기반 탄성체 재료인 IP-PDMS는 일반 PDMS와 비슷한 성능을 가지고 있으며, 이로 인해 신형 IP-PDMS 포토레지스트는 부드럽고 유연하며 탄성이 특징인 3D 마이크로나노 구조의 고정밀 증재 제조를 제작하는 데 이상적인 인쇄 재료가 되었다.IP-PDMS의 무생물 독성 특성(ISO 국제 표준 준수)은 생명과학과 생물학 분야의 새로운 3D 프린팅 응용의 토대를 마련한다.새로운 광택 감지 수지는 매우탄성체 자유 곡면 세포 브래킷을 제작하고 소프트 조직의 자연 특성을 모방하는 3D 설계에 적합합니다.

IP-PDMS로 인쇄된 구조 그림 (왼쪽에서 오른쪽): 마이크로 테이퍼 구조 클로즈업;마이크로 테이퍼 패턴,단일 요소의 외경이 50 µm인 팔면체;팔면체 패턴;다양한 크기의 3D 직사각형 패턴;직사각형 패턴 클로즈업

과학자들은 벽호의 놀라운 파충류 능력을 연구함으로써 벽호의 각 발바닥 연장자는 수백만 개의 매우 가는 강모이고, 각 강모 끝에는 수백 개의 더 가는 마이크로 나노 구조 분지가 있다는 것을 알게 되었는데, 이는 벽호가 어떤 표면에도 적응할 수 있게 하였다.최근 레브니즈 신소재 연구소 (INM) 의 과학자들은 Nanoscribe의 Photonic Professional 시스템을 사용하여 다양한 형태의 3D 접착 마이크로 나노 구조 모판을 설계한 후 이 모판을 압축 모형을 복제하여 최종적으로 3D 접착 마이크로 나노 구조를 만들었다.이 설계는 서비스 유지를 위한 등반 로봇이나 지구 궤도를 도는 우주 파편 시스템 제거 등 산업 생산 라인의 캡처 임무와 더 많은 다른 응용에 응용될 수 있을 것으로 보인다.

3D 마이크로 납 가공 모판에서 복사된 압축 모형으로 만든 생물학적 접착 마이크로 납 구조 배열.

사진 출처: R. Hensel, INM – Leibniz Institute for New Materials

Nanoscribe의 마스크 없는 이중 광자 광각 기술은 거의 모든 기하학적 형태의 접착 마이크로 납 구조를 구현할 수 있는 *의 설계 자유도를 갖추고 있습니다.과학자들은 이 기술을 활용해 날개면 기둥 모양으로 배열된 깔때기형 미나 구조를 특별히 설계했다.날개면의 각도를 조절함으로써 건조한 조건에서나 수중에서도 더 강한 접착도를 나타내는 미나구조의 접착도를 조절할 수 있다.

일반적으로 이러한 종류의 설계는 우리가 복제 공정으로 제조한 이러한 응용 잠재력을 가진 접착 마이크로 나사 모양의 배열을 응용한다.그러나 몰드 복사 프로세스는 큰 언더컷이 몰드에서 형성되지 않는 등 설계 자유도를 제한합니다.나노스크리브가 개발한 새로운 직접 인쇄가 가능한 탄성체 소재는 앞으로 탄성 마이크로나 구조의 고급 디자인을 직접 인쇄할 수 있는 새로운 가능성을 열었다.

칼스루에 본사를 둔 Nanoscribe는 독일 하이테크 회사로서 이중 광자 중합 기술을 기반으로 나노급 고정밀 증재 제조 기술을 보유하고 있으며 과학 연구 및 산업 분야에 대한 혁신적인 맞춤형 솔루션을 보유하고 있으며 글로벌 판매 네트워크와 전문 서비스를 실현하고 있습니다.십여 년의 기술 연구와 개발을 거쳐, 우리는 이미 마이크로 나노 고정밀 증재 제조의 시장 선봉자가 되었고, 추진자, 예를 들면 마이크로 나노 광학, 마이크로 기계, 생물 의학 공학, 마이크로 흐름 제어, 초재료 등 분야의 혁신 프로젝트가 되었다.Dell은 전 세계 30여 개국에 걸쳐 2000명 이상의 활성 사용자를 보유하고 있습니다.

3D 이중 광자 마스크 없는 포토레지스트 기술 및 제품 컨설팅에 대한 자세한 내용

Nanoscribe 중국지사-나찰3차원과학기술 (상해) 유한회사에 련락하는것을 환영한다

독일 Nanoscribe 초고정밀 이중 광자 마이크로나 3D 마스크 없는 광각 시스템:

Photonic Professional GT2 듀얼 광자 마이크로나 3D 마스크 없는 포토레지스트 시스템

Quantum X 듀얼 광자 회색조 포토레지스트 마이크로 나노 인쇄 장치

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