미국 터프스 대학교 (Tufts 대학교) 의 연구원들은 NTA-FL에 사용되는 형광 면역 마커 단일 EV의 최적화 알고리즘을 보도하여 NTA 기반의 단일 낭포 면역 마커 및 검출과 입도 분포 및 농도 분석을 더욱 정확하게 했다.이 알고리즘은 NTA 검사 결과의 신뢰도를 효과적으로 향상시킬 수 있으며 EV의 기능과 메커니즘을 더 깊이 연구하는 데 강력한 도구를 제공합니다.。

전기 연구에서 연구자들은 전통적인利用국가세무기구진행EV아형 분석의 형광/산란광 비교 방법은 데이터가 빗나가는 상황이 나타날 수 있다. 일반적으로 형광(FM) 곡선이 둘러싼 면적과 산란광(LSM) 곡선이 둘러싼 면적의 비율은 EV의 순도를 나타낼 수 있다.그러나 이 연구자들은 분석 과정에서 테스트 1, 2, 4 (표 1, 그림 1), FM (블루 라인) 과 LSM (레드 라인) 의 비율이 100% 보다 크다는 것을 발견했습니다. 이는 EV 순도가 100% 보다 크다는 것을 나타냅니다. 이는 분명히 불합리합니다. 이 테스트 결과는 다음과 같습니다.

1. 형광 검사 과정에서 대량의 가짜 신호가 나타났을 수 있다.

2. NTA 시스템의 기술적 제한으로 LSM은 매우 작은 EV나 굴절률이 낮은 다른 입자를 감지할 수 없다.산란광 모드에서 EV가 완전히 감지되지 않아 일부 EV 데이터가 감지되지 않아 LSM 면적이 작아 비율이 100% 보다 크다.

3.연구진은 또한 FM 모드가 50 nm 이하의 영역에서 뚜렷한 신호봉이 나타나고 LSM 모드에 비해 50 nm 이하의 신호가 기본적으로 0으로 쇠퇴하는 것도 비율이 100% 보다 큰 원인 중 하나일 수 있다는 것을 발견했다.구체적으로 말하면 이는 유리된 형광분자가 충분히 제거되지 않았고 체계에서 유리된 단백질이 형광분자에 의해 표기되여 작은 크기의 분구에서의 형광신호가 증강되였을수도 있다.

이러한 상황을 해결하기 위해 연구자들은 두 가지 평가 방법을 제안했습니다.

첫 번째 방법샘플에서 50nm 이상의 입자 수를 계산하고 FM과 LSM의 입자 수를 비교하여 FM과 LSM 사이의 비율을 도출하는 전통적인 계산 방법입니다.(그림 2b, c)

두 번째 방법최적화된 계산 방법으로, 두 가지 방법으로 얻은 입도 분포 곡선 사이의 중첩 영역을 계산하고, 이 영역을 LSM에서 50nm 이상의 입자 총 수와 비교하여 중첩 영역 비율을 도출한다.(그림 2d)

연구 과정에서 연구자들은 입자의 입경 선택에 대한 그들의 취사를 중점적으로 강조했다.EV를 더 정확하게 분석하기 위해 연구자들은 분석 범위를50-200nm. 이 범위를 선택한 이유는대부분의 EV 사이즈가 이 범위 안에 있어요.. 또한,LSM은 50nm 미만의 입자 검출에 한계가 있음반면 200나노미터 이상의 입자는 EV가 아닐 수 있다. 따라서 분석 범위를50-200나노미터는 다른 종류의 입자를 효과적으로 제거하여 분석 결과의 정확성을 높일 수 있다。

그림 2 NTA 기반 면역 마커 알고리즘 설명도

표 2 알고리즘 최적화 후 서로 다른 샘플의 형광 면적 (FM) 과 산란 광 면적 (LSM) 비율 (SA)

NanoCoulter 나노 입도기 사용쿠르트 원리, 광학 원리의 한계를 타파하고, 각 과공 입자를 정확하게 분석하여 진정한 의미의 단일 입자 검측을 실현할 수 있으며, 입자 지름에 대한 분포가 넓다분산계견본은 더 좋은 측정 효과가 있다.또한 견본의 굴절률, 흡광도 등 광학성질의 영향을 받지 않으며 데터가 맞지 않고 가장 진실한 반응견본상태이다.