고진공열증발탄소도금기는 련속증발과 펄스증발 두가지 핵심작업모식을 갖고있는데 그 설계는 증발과정을 정확하게 통제하여 부동한 공정수요를 만족시키는데 구체적으로 다음과 같이 설명한다.

1. 고진공열증발탄소도금기 련속증발모식

1. 원리:

고정 출력을 통해 탄소 공급원 (예: 고순도 탄소 섬유 또는 탄소 막대) 을 가열하여 지속적으로 녹이고 안정적으로 증발시켜 진공 챔버 실내에 균일한 증기 흐름을 형성합니다.기체 상태의 탄소 원자나 분자는 직선 운동으로 기저 표면으로 확산되어 층층이 치밀한 고체 박막으로 응결된다.이 모델은 폐쇄 루프 온도 제어 시스템에 의존하여 증발 속도를 일정하게 유지하고 전력 파동을 ± 1% 이내로 제어한다.

2. 특징:

고효율 안정: SEM 샘플 전도층 제조와 같은 대량의 도금 또는 빠른 성막이 필요한 장면에 적합합니다.

막층 균일: 증기류가 지속적으로 기저를 덮어 국부적인 두께 차이를 줄이고 막층의 일치성을 확보한다.

공정 간소화: 가열원을 자주 켜고 정지할 필요가 없으며 조작 절차가 더욱 간결하다.

3. 장면 적용:

초박형 슬라이스 또는 나노 입자를 탑재한 TEM 지원 필름을 제조합니다.

표면 분석에서는 X선 스펙트럼 EDS 분석과 같은 보호 계층 또는 전도성 계층으로 사용됩니다.

산업 분야의 대량 도금 수요 (예: 전자 부품 전도층).

2. 고진공열증발탄소도금기 펄스증발모식

1. 원리:

간헐적 가열 방식을 채택하여 펄스 신호를 통해 탄소원의 증발을 제어한다.매 펄스주기내에 탄소원은 재빨리 증발온도로 상승하여 기체상태립자를 방출한후 가열을 잠시 중지하여 기저표면의 립자가 충분히 퇴적되도록 한다.펄스 주파수와 점공비를 조절하여 막층의 두께와 입자의 크기를 정확하게 제어한다.

2. 특징:

세밀한 조절통제: 초박막탄소막 또는 나노급구조를 제조하는데 적합하며 막두께제어정밀도는 나노급에 달한다.

열손상 감소: 간헐적인 가열은 기저온도 상승을 낮추고 고온이 민감한 재료에 미치는 영향을 피한다.

입자 세분화: 펄스식 증발은 기체 상태의 입자 충돌을 감소시켜 더 작은 막층 입자를 형성한다.

3. 장면 적용:

EBSD 분석에서 샘플 표면 특성이 최적화되어 고해상도 탄소막 강화 신호가 필요합니다.

생물의약 분야 세포 샘플 도금, 열효과 최소화 요구.

광학 소자 도금 (예: 반사 방지막) 은 막층의 광학 성능을 정확하게 제어해야 한다.

3. 고진공열 증발 탄소 도금기 모델 선택 근거

1.막층 두께 요구:

연속 모드는 비교적 두꺼운 막층 (예: μm급) 을 제조하기에 적합하고 효율이 높다.

펄스 모드는 nm급과 같은 초박막 막층에 적합하며 정밀도가 더 우수합니다.

2. 베이스 재료 특성:

금속과 같은 고온에 견디는 재료는 연속 모드를 선택하여 작업 시간을 단축할 수 있습니다.

중합체, 생체 샘플과 같은 열 민감 재료는 변형을 피하기 위해 펄스 모드가 필요합니다.

3. 공정 복잡도:

간단한 도금 작업 (예: 전도도층) 은 연속 모드로 조작을 간소화합니다.

나노 구조와 같은 고정밀 요구 사항은 펄스 모드로 세밀한 제어를 구현합니다.

4. 고진공열증발탄소도금기 설비지원기능

1.진공 시스템: 터빈 분자 펌프 + 스핀 펌프 조합, 극한 진공, 작업 진공, 증발 과정에 오염이 없음을 확보합니다.

2.증발원 관리: 4개의 고순도 탄소섬유 증발원은 교대로 작업할 수 있으며, 자동으로 통단 상태를 검측하여 사용 수명을 연장할 수 있다.

3.샘플대 제어: 수동/자동 회전 지원, 고속/저속 2단 조정 가능, 다각도 균일 퇴적 실현.

4.안전 보호: 진공 보호, 과류 보호, 과압 보호 등 이상 작업 상황 손상 설비를 방지합니다.