전자동 이온 사출기의 도금층이 균일하고 전도성이 양호한데, 이는 자기 제어 사출 기술, 정밀 제어 시스템 및 다중 표적재 선택 능력 덕분이며, 구체적인 장점은 다음과 같다.

1. 자기제어사출기술은 도금층의 균일성을 보장한다

1.자기장 최적화 설계: 자기의 모양, 배열 방식 또는 이동 자기장을 조정하여 플라즈마 밀도의 균일성을 강화하고, 표적면의 다른 위치의 사출 속도를 일치시킴으로써 막층의 균일성을 높인다.예를 들어, 표적재와 기판 거리의 최적화는 사출 입자가 고르게 쌓이지 않도록 하고 박막의 두께가 고르게 확보된다.

2.표적-기거동태조절: 실험에 의하면 표적재와 기판거리가 증가함에 따라 기판의 부동한 점의 막두께차치가 점차 줄어들고 균일성이 뚜렷이 제고되였다.이 특성은 이온 사출기가 서로 다른 사이즈와 모양의 샘플에 적응하여 고정밀 도금막을 실현할 수 있게 한다.

3.사출 출력과 진공도 협동 제어: 사출 출력을 증대하면 과녁면의 기휘 면적을 확대하여 출력 밀도를 더욱 균일하게 할 수 있다;진공도를 높이면 사출 원자와 챔버 실내 가스 원자의 충돌 확률을 줄이고 막의 두께 균일성을 더욱 최적화할 수 있다.이러한 이중 제어 메커니즘은 도금층의 품질의 안정성을 확보하였다.

2. 전자동 이온 사출기 정밀 제어 시스템 전도성 향상

1.항류 제어 기술: 고정밀 항류 자기 제어 DC 사출 전원을 사용하여 제어 정밀도가 1mA에 달해 사출 전류의 안정성을 확보한다.이러한 안정적인 전류 출력은 치밀한 금속 도금층을 형성하여 샘플의 전도 성능을 향상시키는 데 도움이 된다.

2.진공 환경 정밀 조정: 고성능 회전 잎 진공 펌프를 통해 작업 진공 환경 (극한 진공<1Pa) 을 빠르게 실현하고 전량 거리 피라니 진공계를 장착하여 진공도를 실시간으로 모니터링한다.이런 정확한 진공 제어는 불순물이 도금층에 미치는 영향을 줄이고 전도 성능을 높일 수 있다.

3.나노급 사출 입자 제어: 사출 입자는 나노급 (<5nm) 에 달하며, 제조된 박막은 치밀하고 균일하다.이런 나노급 도금층은 전도성능이 우수할 뿐만 아니라 고해상도 SEM 관측의 수요도 만족시킬 수 있다.

3. 전자동 이온 사출기 다중 표적재 선택은 다양한 수요를 만족시킨다

1.귀금속 표적재 지원: 이온 사출기는 금, 백금, 은, 팔라듐 등 다양한 귀금속 표적재의 선택을 지원한다.이런 표적재는 량호한 전도성과 화학안정성을 갖고있어 부동한 견본의 도금재료에 대한 수요를 만족시킬수 있다.

2.표적재 교체 편리성: 표적두는 차폐고리, 압환, 표적재로 구성되어 있으며, 표적재를 교체할 때 차폐고리와 압환나사를 회전시키기만 하면 쉽게 낡은 표적재를 제거하고 새로운 표적재를 설치할 수 있다.이러한 편리한 표적재 교체 방식은 설비의 유연성과 사용 효율을 향상시켰다.

4. 전자동 이온 사출기 실제 응용 효과 검증

1. 스캐닝 렌즈 관측 최적화: 스캐닝 렌즈 (SEM) 관측에서 이온 사출기는 비전도 샘플에 균일하고 전도성이 좋은 도금층을 제공할 수 있다.이것은 하전 효과의 발생을 효과적으로 피하여 선글라스 이미지를 더욱 선명하고 디테일을 더욱 풍부하게 한다.

2.고배율 이미징 지원: 고배율 이미징이 필요한 샘플의 경우 이온 사출기는 섬세하고 균일한 전도성 금속층을 제공 할 수 있습니다.이는 더 큰 배율의 관측과 영상을 실현하고 실험의 정확성과 신뢰성을 높이는 데 도움이 된다.