스펙트럼 분석기

협상 가능업데이트02/11

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제조업체의 성격: 생산자

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개요

DJ-2000형 스펙트럼 분석기는 표준 설계 및 제조 공정 기술을 사용하여 일본 하마마쓰사의 CMOS 신호 수집 소자를 응용하였으며, 각 CMOS는 별도로 불꽃 개수를 설정하여 분광기 기술과 동기화할 수 있으며, 진공 광실 설계 및 전체 디지털 자극 광원을 사용한다.이 CMOS 분광기는 CCD 분광기의 전체 스펙트럼 특성을 포함할 뿐만 아니라 PMT 분광기의 비금속 원소에 대한 매우 낮은 검출 제한을 갖추고 있으며, 전체 기기의 설계가 합리적이고, 조작이 간단하고 배우기 쉬우며, 데이터가 정확하고, 장기적인 안정성이 좋은 등의 장점을 가지고 있다.

제품 정보

스펙트럼 분석기주요 기술 매개변수

응용 분야	제금, 주조, 기계, 과학연구, 상업검사, 자동차, 석유화학, 조선, 전력, 항공, 원자력발전, 금속과 유색제련, 가공과 회수공업에서의 각종 분석.
테스트 가능한 베이스	철기, 동기, 알루미늄기, 니켈기, 코발트기, 마그네슘기, 티타늄기, 아연기, 연기, 주석기, 은기.
광학 시스템	파형-롱그롤랜드 원 스펙트럼 진공형 광학 시스템
파장 범위	140 ~ 680nm
래스터 초점 거리	401mm
탐지기	고성능 CMOS 어레이/CCD 어레이
라이트 유형	디지털 광원, 고에너지 가연 기술(HEPS)
방전 주파수	100-1000Hz
방전 전류	대형 500A
작동 전원	AC220V 50/60Hz 1200W
계기 크기	780 * 565 * 360mm
계기 무게	약 80kg
테스트 시간	샘플 유형에 따라 보통 20S 정도
전극 유형	텅스텐 재료 분사 전극
분석 클리어런스	4mm
추가 기능	진공, 온도, 소프트웨어 자동 제어 압력, 통신 모니터링

스펙트럼 분석기주요 기술 특징

고성능 옵티컬 시스템	광학 시스템이 자극할 때 발생하는 호염은 렌즈가 직접 진공 광학실로 도입하여 광로의 직통을 실현하여 광로의 손실을 효과적으로 낮춘다;
	CMOS 컴포넌트를 사용하여 C, P, S, As, B, N 및 다양한 금속 요소와 같은 비금속 요소의 함량을 정확하게 측정할 수 있습니다.
	측정 결과 정확성, 중복성 및 장기적 안정성.
자동 광로 조정	자동 광로 교정, 광학 시스템은 자동으로 스펙트럼 선 스캐닝을 진행하여 수신의 정확성을 확보하고 번거로운 파봉 스캐닝 작업을 면제한다;
자동 광로 조정	기기는 자동으로 특정 스펙트럼 선을 식별하여 원래 저장 라인과 비교하고 표류 위치를 확정하며 분석 라인의 현재 픽셀 위치를 찾아 측정한다.
플러그 방식 렌즈 설계	진공 광학 시스템은 *의 입사창과 진공 격리를 사용하여 진공 시스템 작업 상태에서 조작할 수 있으며, 광학 렌즈는 플러그식 렌즈 구조를 사용하여 일상적인 세척 유지보수가 편리하고 빠르다.
진공실 일체화	*의 광실 구조 설계는 진공실의 용적을 더욱 작게 하고 진공 흡입 시간은 일반 분광기의 1/2에 불과하다.
진공실 일체화	진공실 일체화 설계와 고정밀 가공으로 진공이 더욱 오래 유지된다.
진공 오일 반환 방지 기술	다단계 격리된 진공 오일 반환 방지 기술, 진공 압차 밸브를 사용하여 진공 펌프가 작동하지 않을 때 진공 광실과 진공 * 격리 보장
진공 오일 반환 방지 기술	중간에 진공여과장치를 추가하여 진공펌프에서 기름이 진공실에 들어가지 않도록 보장하고 CMOS 검측기 및 광학소자가 믿음직한 환경에서 작업하도록 보장하였다.
개방형 격발대	개방형 격발대 기계의 유연한 샘플 클립 설계는 고객 현장의 각종 형상 크기의 샘플 분석을 만족시킨다;
개방형 격발대	작은 샘플 클러치를 함께 사용하면 선재를 낮게 분석하면 3mm에 달할 수 있다.
분사 전극 기술	분사 전극 기술을 사용하여 텅스텐 재료 전극을 사용하면 자극 상태에서 전극 주위에 아르곤 가스 분사 기류가 형성되어 자극 과정에서 자극점 주위가 외부 공기와 접촉하지 않고 자극 정밀도를 높인다
분사 전극 기술	* 아르곤 가스 로드 설계를 통해 아르곤 가스 사용량을 크게 절감하고 고객의 사용 비용도 절감할 수 있습니다.
통합 가스 회로 모듈	가스 회로 시스템은 가스 회로 모듈의 유지 보수 면제 설계를 채택하여 전자 밸브와 유량계를 대체하고 전극 자체 청소 기능을 사용하여 자극을 위해 좋은 환경을 만들었다.
디지털 자극 광원	디지털 자극 광원, * 들어오는 플라즈마 자극 광원을 사용하여 초안정 에너지가 아르곤 환경에서 샘플을 방출한다;
	전체 디지털은 펄스를 자극하여 샘플 플라즈마 초고해상도와 높은 안정률 출력을 확보한다;
	다양한 재료의 자극 요구 사항을 충족시키기 위해 광원의 매개변수를 임의로 조정할 수 있습니다.
고속 데이터 수집	기기는 고성능 CMOS 검측 소자를 사용하여 각 CMOS의 단독 초고속 데이터 수집 분석 기능을 갖추고 있으며, 광실 온도, 진공도, 아르곤 가스 압력, 광원, 자극실 등 모듈의 운행 상태를 자동으로 실시간으로 모니터링하여 제어할 수 있다.
이더넷 데이터 전송	컴퓨터와 분광기 사이에 이더넷 카드와 TCP/IP 프로토콜을 사용하여 전자기 간섭, 광섬유 노후화의 폐해를 피하는 동시에 컴퓨터와 프린터* 외장으로 업그레이드와 교체가 편리하다;
이더넷 데이터 전송	원격으로 기기 상태를 모니터링할 수 있고, 다중 통로 조종 시스템이 모든 기기 파라미터를 제어하고 모니터링할 수 있다.
사전 제작 작업 커브	서로 다른 재질과 번호의 샘플링 창고를 갖추고 있으며, 기기가 출고될 때 공장에서 작업 곡선을 미리 제작하여 설치 디버깅과 적시에 생산에 투입하기 편리하다;
	요소와 재질에 대응하는 분석 프로그램에 따라 약간의 차이가 있으며, 자극 및 테스트 매개변수 기기는 출하 시 이미 조절되어 분석 프로그램에 따라 자동으로 테스트 조건을 선택할 수 있다;
	기술 사양에는 분석 범위가 포함되어 있으며 사용자에게 제공되는 샘플에 따라 작업 곡선을 무료로 그리거나 연장할 수 있습니다.
빠른 분석 속도	분석 속도가 빨라 20초 만에 한 번의 분석을 완료할 수 있습니다.
빠른 분석 속도	서로 다른 분석 재료에 대해 예연 시간과 측정 시간을 설정함으로써 기기가 짧은 시간에 우수한 분석 효과를 얻을 수 있도록 한다.
다중 베이스 분석	광로설계는 로란원구조를 채용하고 검측기를 상하로 교체배렬하여 모든 스펙트럼선을 접수하고 하드웨어시설을 증가하지 않으면 다기체분석을 실현할수 있다.
다중 베이스 분석	생산의 수요에 따라 기체와 재료의 종류를 증가하고 요소를 분석하는데 편리하다 (하드웨어 원가 없음).
소프트웨어 중국어 및 영어 시스템	기기 조작 소프트웨어*는 Windows 7/8/10 시스템과 호환됩니다.
소프트웨어 중국어 및 영어 시스템	분광기 지식 및 사용 경험이 없는 사용자도 간단한 지식 교육을 통해 소프트웨어를 쉽게 사용할 수 있습니다.

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