물방울 각도 측정기

제품 포지셔닝
SL200L+형 접촉각 측정기는 액정, 웨이퍼, 반도체, 실리콘 칩 및 포토레지스트 등 정밀 재료의 표면 청결도와 윤습성 분석을 위해 설계된 설비이다.대이동플랫폼과 모듈화설계리념에 근거하여 이 설비는 자동진액, 동적접촉각 및 인터페이스장력테스트를 지원하여 공업품질검사와 연구개발에 정확한 데터지원을 제공한다.

핵심 기술 이점

1. 대형 모바일 플랫폼 설계：

   • PCB 보드, IPAD 디스플레이, 터치 스크린과 같은 대형 샘플의 청결도 및 접촉 각도 측정에 적합합니다.

   • 액정, 웨이퍼, 반도체 등 정밀 소재의 표면 윤습성 평가를 지원한다.

2. 고정밀 광학 시스템：

   • 산업용 프로파일 렌즈: 영상이 뚜렷하여 액적의 윤곽이 정확하게 식별되도록 확보한다.

   • 석영 유리 유광 광원: 배경 조명을 균일하게 하여 이미지 명암비를 높입니다.

3. 지능형 소프트웨어 시스템(CAST™3.0）：

   • 동적 접촉각 분석: 전진 / 후퇴 각도, 스크롤 각도 및 시간 종속성 접촉 각도 측정을 지원합니다.

   • 표면 자유 에너지 계산: 색산력, 극성력, 수소결합력 등 분량을 분석하고 재료 표면 특성을 평가한다.

   • 액-가스/액-액면 장력 테스트: 정확한 측정은 펜던트 드롭(Pendant Drop)을 기반으로 합니다.

4. 자동 진액 시스템：

   • 고정밀 액적 제어, 미량 샘플 테스트에 적합, 시약 소모 감소.

업계 문제점 해결 방안

• 표면 청결도 측정: 접촉각과 인터페이스 장력 테스트를 통해 액정, 웨이퍼, 반도체 등 재료의 표면 오염물 잔류를 신속하게 평가한다.

• 포토레지스트 윤습성 분석: 광각 공정에서 도포의 균일성과 부착력을 최적화하여 제조 양률을 높인다.

응용 분야

• 액정 디스플레이: 화면 표면의 청결도와 코팅층의 윤습성을 평가한다.

• 반도체 제조: 웨이퍼, 실리콘 표면 오염물 검측과 윤습성 분석.

• 포토레지스트 연구 개발: 포토레지스트 도포 성능을 최적화하여 공정 안정성을 향상시킵니다.

• 터치스크린 품질 검사: 표면 청결도 및 코팅 부착력 평가.

기술적 이점

• 고정밀 제어: 마이크로미터급 위치 정밀도, 기계 진동 방해를 감소합니다.

• 모듈식 설계: 다양한 테스트 요구 사항에 적합한 기능 확장을 지원합니다.

• 운영 편의성: 마법사식 소프트웨어 인터페이스는 원클릭 조작 기능을 결합하여 사용 문턱을 낮춘다.

서비스 지원
전문적인 기술 서비스와 맞춤형 방안을 제공하여 설비가 연구 개발 및 품질 제어에서의 효율적인 응용을 확보한다.

SL200L 시리즈 접촉각 측정기 제품 특징 및 장점

업계 문제점 해결 방안

1. 상단 뷰 3D 접촉 각도 기능：

   • 액정, 웨이퍼, 반도체 등 고정밀 재료의 표면 구조와 화학 다양성이 윤습성에 미치는 영향을 평가하는 데 사용되며, 전통적인 방법으로는 미시적이고 거친 표면 및 복잡한 화학 구성을 정확하게 분석할 수 없는 난제를 해결한다.

2. 역학 백금판 표면 장력 테스트：

   • 고정밀 역학 백금 판법을 통해 실리콘 조각, 포토레지스트 표면의 유기 오염물 잔류를 검출하여 제조 과정에서 오염물을 신속하게 선별하는 업계 문제점을 해결한다.

핵심 기술 및 구성

1. 고정밀 제어 시스템

• 교차 선형 레일 기술：

  • 수동 제어 정밀도 0.01mm, 소프트웨어 제어 정밀도 0.5μm로 웨이퍼, 반도체 등 정밀 시료의 안정적 측정을 확보한다.

• 9차원 기계구조 설계：

  • 2XYZ + 3 수평 조정 시스템, 샘플대, 카메라, 샘플링 시스템 작동을 조정하며 IPAD, 터치스크린 등 대형 디스플레이 테스트에 적합합니다.

• 납 업그레이드 주사 펌프 시스템：

  • 액적 제어 정밀도는 0.02μL(nL급까지 확장 가능)에 달해 포토레지스트 미량 도포 테스트 수요를 충족시킨다.

2.전문화된 광학 영상 시스템

• 고경심 공업렌즈(0.35-4.5X 배율):

  • 액정, 실리콘 조각 표면의 미시적 액적 형태를 선명하게 포착하고 곡면 보정 기술을 지원하여 요철면 접촉각을 분석한다.

• 고속 카메라 시스템：

  • 독일 오리지널 87프레임/초 카메라 (1000프레임/초로 업그레이드 가능) 는 포토레지스트 윤습 과정을 동적으로 기록한다.

• 조절식 LED 냉광원：

  • 액체 방울의 휘발 방해를 피하고 포토레지스트와 같은 포토레지스트 재료의 테스트 안정성을 확보합니다.

3. 지능형 분석 소프트웨어(CAST™2.0）

• 동적 접촉각 분석：

  • 전진/후퇴각, 굴림각 및 시간 의존성 접촉각 측정을 지원하며 반도체 표면 오염물 동적 흡착 연구에 적합하다.

• 서피스 자유 에너지 모델：

  • Acid-base와 같은 12 가지 알고리즘은 색산력, 극성력을 분석하고 재료 표면 청결도와 코팅 호환성을 평가합니다.

• 액체-액체 계면 장력 테스트：

  • Young-Laplace 방정식 의합을 기반으로 포토레지스트와 현상액의 인터페이스 행동 분석을 지원합니다.

4. 확장 기능 및 호환성

• 모듈식 샘플링 시스템：

  • PTFE 침관, 가는 침관과 호환되며 고점도 포토레지스트 및 소수재 테스트에 적합하다.

• 표준화된 비디오 모드：

  • 다중 브랜드 호스트 업그레이드를 지원하며, 데이터는 Excel/BMP 형식으로 내보내져 과학 연구 논문 및 산업 보고서 요구를 충족시킬 수 있습니다.

• 정전기 방지 설계：

  • 이온풍 기술은 웨이퍼, 반도체 테스트에서의 정전기 간섭을 제거하여 측정치의 정확성을 높인다.

장면 적용

• LCD 업계: 화면 표면 청결도와 코팅 윤습성 검사.

• 반도체 제조: 웨이퍼/실리콘 필름 오염물 선별검사, 포토레지스트 도포 균일성 평가.

• 터치스크린 품질 검사: 표면 부착력과 청결도 분석.

• 포토레지스트 연구 개발: 조제윤습성능을 최적화하여 공예의 량률을 높여야 한다.

기술적 이점

• 정밀도가 높은 정밀 재료에 적합하다.: 마이크로 전자 업계를 위해 설계되었으며 표면 구조가 복잡하고 오염물을 검출하기 어려운 문제점을 해결합니다.

• 전체 프로세스 자동화: 원클릭으로 이미지 캡처, 계산 및 데이터 저장을 완료하여 인위적인 오차를 줄입니다.

• 방해 방지 설계: 다층 수평 조정 시스템과 정전기 방지 기술을 결합하여 확보특별환경에서의 테스트 안정성.

기술 매개변수

다음 마크업 "*'는 각 모델의 주요 차이점입니다.

CAST는^®아샤^®그리고 ADSA^®트루드롭 TrueDrop^®RealDrop의^®그리고 TheDrop^®MicroDrop^®그리고 LMCA^®그리고 Shsolon^®소렌^®상하이 소렌을 위해 상표를 등록하다.

위의 상표는 접촉각 측정기, 표면 장력기, 인터페이스 장력기의 상품 또는 서비스에 사용됩니다.권리 침해는 반드시 추궁해야 한다!