반도체 기체 중의 흔적 불순물 분석 시스템

협상 가능업데이트02/03

모델

제조업체의 성격: 생산자

제품 카테고리

원산지 Place of Origin

온라인 상담

개요

반도체 기술의 진보와 반도체 레이저의 통신, 정보 처리 등 분야의 응용이 날로 활발해짐에 따라 제조 과정에서 사용되는 특수 기체의 종류와 수량이 끊임없이 증가하고 있다.이 시스템은 기상 크로마토그래피를 채택하여 반도체 재료 기체 중의 흔적 불순물 및 성분 함량을 자동으로 측정할 수 있다.

제품 정보

게르마늄 측정 가능 (GeH는), 인화수소 (PH는), 비산(AsH는), 디클로로 실리콘 (DCS는), 트리클로로 실리콘 (TCS는) 등 반도체 가스 중의 불순물 성분.

고성능 가스 크로마토그래프를 통해 고정밀 자동 감지 (조작이 간편함) 를 실현할 수 있다.

수소 검출 가능 (H2), 산소 (O2는), 질소(N2는), 메탄(CH4는), 일산화탄소(CO는), 이산화탄소(CO2는）、C2는그룹,C3는조별 등 불순물.

게르마늄 측정 가능 (GeH는), 인화수소 (PH는), 비산(AsH는), 디클로로 실리콘 (DCS는), 트리클로로 실리콘 (TCS는) 등 반도체 가스 중의 불순물 성분.

고성능 가스 크로마토그래프를 통해 고정밀 자동 감지 (조작이 간편함) 를 실현할 수 있다.

수소 검출 가능 (H2), 산소 (O2는), 질소(N2는), 메탄(CH4는), 일산화탄소(CO는), 이산화탄소(CO2는）、C2는그룹,C3는조별 등 불순물.

게르마늄 측정 가능 (GeH는), 인화수소 (PH는), 비산(AsH는), 디클로로 실리콘 (DCS는), 트리클로로 실리콘 (TCS는) 등 반도체 가스 중의 불순물 성분.

고성능 가스 크로마토그래프를 통해 고정밀 자동 감지 (조작이 간편함) 를 실현할 수 있다.

수소 검출 가능 (H2), 산소 (O2는), 질소(N2는), 메탄(CH4는), 일산화탄소(CO는), 이산화탄소(CO2는）、C2는그룹,C3는조별 등 불순물.

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