합금 금속 원소의 빠른 분석

合金金属元素快速分析OES8000S는

작동 원리:

원자나 이온은 스펙트럼 항목으로 묘사할 수 있는 불연속적인 에너지 상태에 처할 수 있다;기체 상태에 있는 원자나 이온이 일정한 외부 에너지를 흡수할 때, 그 핵외 전자는 기체 상태에서 격발 상태로 약진하는데, 격발 상태에 있는 원자나 이온은 매우 불안정하여 약초면 약진하여 기초상태로 되돌아가고 자극이 흡수한 에네르기를 빛의 형식으로 방출하며 이런 빛을 일정한 파장순서에 따라 배렬하면 원자스펙트럼이다.특정 원소는 일련의 서로 다른 파장의 빛을 생성할 수 있기 때문에 측정할 원소의 특징 스펙트럼의 존재 여부를 식별하여 정성 분석을 할 수 있으며, 이 파장의 빛의 강도에 따라 정량 분석을 할 수 있다.격발대의 전극과 미리 제조된 금속 샘플 사이에 격발 과정에서 전기 불꽃이 발생한다.불꽃에서 나오는 빛은 입사된 좁은 틈을 통해 광실로 들어가 래스터를 통해 빛을 나눈 뒤 파장에 따라 다른 각도로 분리돼 CMOS 센서에 비친다.센서는 광신호를 전기 신호로 변환하고 측정 시스템을 통해 컴퓨터에 전송하며 처리 후 분석 결과를 얻습니다.

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성능 특징:

채용CMOS는검측기 스펙트럼 테스트 기술,오버레이 파장 범위 내의 모든 스펙트럼을 테스트할 수 있으며, 테스트 베이스, 채널, 분석 프로그램을 구성하고 보충하는 것이 매우 편리하다.기구는 부피가 작아서 유지 보수와 실험실 배치가 편리하다.OES8000의강철과 비철금속재료의 원소를 시험하는 통용형기구로서 다음과 같은 포함을 만족시킬수 있다.페베이스,Cu베이스,알은베이스,티베이스,Pb는베이스,Gg 베이스,회사는기체와 같은 기체의 요구는 금속원소분석의 비교적 좋은 선택이다.

전체스펙트럼 분석 기술은 더 많은 기체와 요소를 쉽게 배치할 수 있고, 사용자 현장에서 구성을 보충할 수 있다

컴팩트한 기기 크기로 실험실 공간 요구 사항 감소

긴 작업 시간, 뛰어난 안정성 및 신뢰성

샘플 테스트 속도가 빠르고 단일 테스트 프로세스가 적음40초

기기 사용 및 유지 보수가 간단하고 편리하며 전문 인력에 대한 요구 사항이 낮음

원래 공장에 분석 프로그램을 설치하여, 테스트 데이터가 정확하고, 번호가 완비되어 있다.

표준화된 샘플을 배치하여 기기를 주기적으로 교정할 수 있다.

화학 시약을 사용하지 않고 안전하고 친환경적인 테스트 프로세스

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기술적 이점:

전체 스펙트럼 검사 다양한 금속 및 원소 테스트

CMOS 검출기 전체 스펙트럼 테스트 기술을 기반으로 각종 금속 중 원소의 스펙트럼 선을 테스트하여 다중 기체, 다중 원소의 테스트를 쉽게 실현한다.

테스트 베이스, 채널, 분석 프로그램을 구성하고 보충하는 것은 매우 편리하며, 납품 후 고객에게 테스트 요소, 분석 프로그램을 보충하는 데 편리하다.

공급업체가 핵심 부품 제공

스펙트럼 분산 컴포넌트 래스터는 독일에서제이스/프랑스삐뚤삐뚤우수한 스펙트럼 분별력을 보장하는 회사 제조

스펙트럼 검출기CMOS는탐지기는 일본 하마마쓰가 제조하여 스펙트럼 선의 감지가 민감하고 저소음을 확보한다

광실 항온 시스템

광실 항온강 체내에 피드백식 가열장치와 격온층을 배치하여 광실내 항온을 효과적으로 보장한다.

이로 인해 온도 변화 하에서 기계 부품의 사이즈 미약한 변화로 인한 광로 표류를 억제한다.특수 유지 보수를 제외하고, 평상시 유지 보수는 일반적으로 흔적을 묘사할 필요가 없다.

동시에 검측기가 항온 환경에서 작동하는 것은 광전 변환 성능의 안정에 도움이 된다.

강철, 비철금속 재료 중 여러 가지 원소를 동시에 신속하게 분석하다

샘플대에 미리 처리된 샘플을 배치한 후OES8000의기껏해야40초 내에 테스트 결과가 표시됩니다.

고객의 요구에 따라 거의 모든 강철, 비철금속 재료에서 흔히 볼 수 있는 원소 함량을 테스트할 수 있다.

전문적인 테스트 시나리오

장기 테스트 기술 서비스의 축적, 천서 기기는 강철, 유색 금속 재료 분석 사용자에게 성숙한 테스트 방안을 제공한다.

테스트 방안은 재료 원소 함량 분류에 대한 분석 프로그램을 채택하여 사용자의 각종 흔한 테스트 수요를 만족시킨다.

분석 절차는 원 공장에서 국제, 국가 표준 샘플을 채택하여 교정하고, 전문 기기 소프트웨어의 의합, 교정을 거친다.

사용자는 원래 공장에서 소량의 표준화 샘플을 배치하기만 하면 일상적인 유지 보수를 완료할 수 있으며, 분석 프로그램을 제작하는 대량의 표준 샘플을 구매할 필요가 없다.

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기술 성능 및 지표

1. 분광실 설계

파형-용격 구조,롤랜드 원 지름400mm의

파장 범위 140 – 680nm

픽셀 해상도 10pm

항온33℃±0.2℃

광실 크기가 작아지도록 특수 재질 캐스팅

간헐적 진공 시스템으로 진공 펌프의 작동 시간이 적음5%

2. 오목 래스터

각선 밀도3600l/mm의

스펙트럼 선 분산율:1.04 nm/mm의

3. 검출기

고성능 라인 CMOS

4. 분석 시간

종류에 따라 다르며, 일반적으로 적다.40초

5. 라이트 발생

전 디지털 플라스마 불꽃 광원 기술

고에너지 예연 기술(HEPS)

빈도100-1000Hz

전류1-80A

6. 격발대

3mm 샘플대 분석 간격

분사 전극 기술

특수 설계된 가스 회로 시스템으로 낮은 아르곤 가스 소모를 보장한다