UV 산화 폐기 처리 장치 원리 소개

UV 산화 폐기 처리 장치 원리 소개

UV 산화 폐기 처리 장치는 고에너지 자외선 파괴, 분해 대분자 사슬을 소분자 사슬로 하고, 다시 오존과 히드록시 자유기 산화, 촉매를 이용하여 촉매 산화를 진행하여 유기물을 물과 이산화탄소로 변화시켜 유기물을 제거하는 목적을 달성한다.

(1) 파괴분해

마이크로파 초강력 전자기 복사와 관통력, 마이크로파 촉매 연소 기능을 채용하여 폐기에 대해 마이크로파 복사와 파괴를 진행하여 모든 유기물 폐기의 분자 사슬을 완전히 끊고, 분해, 물질 구조를 변경하며, 고분자 오염물질을 분해, 분해하여 물과 이산화탄소 등 저분자 무해물질로 만든다.

특제 자외선 광관을 사용하여 처리장치 내에서 고에너지 C밴드(253.7nm 밴드) 자외선을 발생시켜 유기물 분자체인을 파괴, 분해하고 물질구조를 변경하여 대분자물질을 분해, 산화시켜 물과 이산화탄소 등 저분자물질이나 무해물질로 만든다.고에너지 C대역의 자외선작용하에 1000PPM 이하의 대분자유기페기는 0.5s 페기에서 유기물이 분해되여 CO2와 H2O로 산화될수 있다.

(2) 삼중 촉매 산화

특제 자외선 광관을 사용하여 처리장치 내에서 C 밴드 (185nm 밴드) 자외선을 생성한다. 이 밴드 자외선은 장치 내 배기가스의 수증기, 산소에 대량의 히드록시 자유기를 생성한다. 히드록시 자유기 (OH) 는 매우 높은 산화 전위 (2.80EV) 가 있기 때문에 산화 능력이 매우 강하다. 대부분의 유기 오염 물질과 빠른 연쇄 반응을 일으킬 수 있다. 선택성 없이 유해 물질을 COO, 소금 또는 2차 광물로 오염시킬 수 있다.