제자리 레이저 프로세스 가스 분석기

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개요

제자리 레이저 프로세스 가스 분석기는 튜닝 가능한 반도체 레이저 흡수 스펙트럼 기술 (TDLAS) 에 기반한 고성능 광학 분석 기기로 대사식 설계로 산업 프로세스 가스 제어에 사용할 수 있다;그 응답 시간은 빠르고, 제자리식 측정에서 일반적으로 초로 계산하며, 샘플링 측정으로 인한 시간 지연을 피하고, 온라인에서 적시에 반응하여 피측정 기체 농도를 측정할 수 있다.

제품 정보

제자리 레이저 프로세스 가스 분석기GasTDL-3100은 튜닝 가능한 반도체 레이저 흡수 스펙트럼 기술(TDLAS)에 기반한 고성능 광학 분석 기기로 대사식 설계로 산업 과정 가스 제어에 사용할 수 있다.그 응답 시간은 빠르고, 제자리식 측정에서 일반적으로 초로 계산하며, 샘플링 측정으로 인한 시간 지연을 피하고, 온라인에서 적시에 반응하여 피측정 기체 농도를 측정할 수 있다.

　　제자리 레이저 프로세스 가스 분석기제품 특징:

1. TDLAS 기술을 채용하여 측정된 기체가 배경기체의 교차교란을 받지 않는다

2. 샘플링 사전 처리 시스템이 필요 없는 제자리 설치

3、응답 속도(T90≤1s), 가스 농도에 실시간 반응 가능

4, 실시간 온라인 측정, 가스 농도는 쉽게 왜곡되지 않으며, 측정 정밀도가 높다

5. 고온, 고분진, 고수분, 고부식성, 고유속 등 열악한 측정 환경에서 좋은 적응성을 가진다

6, 폭발 방지 설계, 안전 계수가 높다

7. 구조가 간결하고 가동부품이 없으며 손실부품이 없으며 유지보수가 없다

原位激光过程气体分析仪

기술 매개 변수:

성능 매개 변수
측정 그룹	O2, CO, CO2, CH4*
측정 원리	TDLAS는
테스트 범위	O2: (0~5)% VOL (사용자 정의 100% 가능) CO: (0~100)%VOL 이산화탄소: (0~100)%VOL CH4: (0 ~ 20) %VOL
정밀도	≤±1%F.S.
반복성	≤±1%
양정 표류	≤±1%F.S.
해상도	0.01%볼륨
응답 시간	T90≤1s
작업 매개변수
방폭 등급	전 db IIC T6 Gb/전 tb IIIC T80℃ Db
설치 방법	제자리 설치
환경 온도	（-20～ +60）℃
작동 전원	24V DC, 24W
가스를 불어 청소하다.	(0.3~0.8) MPa 산업용 질소
인터페이스 신호
통신	RS485 및 RS232
출력 모드	2소켓 4-20mA 출력 3소켓 릴레이 출력
* 참고: 각 분석기는 단일 성분 가스 농도를 측정합니다.

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