고온 진공 대형 플랫폼 전자동형 접촉각 측정기

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개요

재료과학, 야금공정, 반도체제조 등 분야의 쾌속적인 발전에서 고온접촉각측정기는 그 독특한 기술우세로 재료의 고온계면행위를 연구하는 관건적인 도구로 되였다.이 기구는 고온 환경에서의 액체와 고체의 접촉각을 정확하게 측정하여 재료의 윤습성, 표면 장력 및 동적 변화 법칙을 제시함으로써 과학 연구와 공업 응용에 중요한 데이터 지원을 제공하였다.

제품 정보

고온 접촉 각도 측정기 구성:

장치 사양
장치 호스트
외형 치수	1730mm(길이)×700mm(가로)×1420mm(높이)
무게	500KG의
전체 시스템 조정	전체 시스템 수준 테스트/ 조정
전원
전압	220 ~ 240VAC
전력	7000W
주파수	50/60HZ
공간
가열대 크기	99.99% 산화알루미늄 재질 가열판, 사이즈(길이×너비): 49mm×49mm, 45mm×45mm
최대 샘플	40mm × 40mm
견본대 조절	수평 조절
카메라 시스템
최대 이미지	5000 (H) × 4000 (V)
최대 프레임 속도	200fps(더 높은 프레임 수 업그레이드 가능)
센서	소니 1/1.8'
스펙트럼	흑백/ 컬러
ROI를	커스텀
선가중치 표시	커스텀
노출 시간	커스텀
전원	5 VDC USB 커넥터
전송	USB3 비전
현미경
초점 거리	650mm±5mm(줌 조절)
배율	10배
시야각 조절	기울기-10~10° 정밀도 ±0.1°;좌우 전후 ± 25mm, 높이 ± 10mm; 전체 모듈은 이동 위치를 빠르게 전환할 수 있으며, 여정은 150mm 이상이어야 잠금 기능을 갖추고 있다
해상도 측정	4 ~ 14um
채집 시스템 조절	내려다보다/ 올려다보기 / 똑바로 보기
라이트
유형	단파장공업LED(냉광)
파장	460nm
광장	80mm × 80mm
광점	150알 집약식
수명	50000시간
고온 시스템
고온로	실리콘 몰리브덴 막대 가열, 항온 구역 120mm(길이)
	30단 지능형 온도 조절, 최고 온도 상승 속도 ≤ 10 ℃/min, 온도 제어 정밀도, 1000 ℃ 이하, ± 0.1 ℃, 1000 ℃ 이상, ± 1 ℃
	상압하 상온에서1500℃, 진공하 상온 1400℃

	99.99% 순도 높은 산화알루미늄 재질 가열관 및 석영관, 길이 1000mm, 관 외경 60mm, 내경 50mm
	이중 온도 제어, 가열관 내외 온도 측정
	이중 냉각 장치,5-35 ℃ 온도 제어, 유량 15L/min 냉각 시스템 용량 ≥ 11L, 냉방량 1520W
	양쪽 보호기 보다 낮지 않다 액세스 제어 시스템
	동축 쌍무 창 수입 석영을 채용하여, 쉽게 분해하여 조립할 수 있다.
진공 펌프	기계식 펌프 (진공도10Pa），분자 펌프 (10^-3Pa) 옵션
	진공 범위 기계식 펌프 (10⁵~10^-3Pa），분자 펌프 (10⁵~10^-7Pa)
소프트웨어
접촉각 범위	0～180°
해상도	0.01°
온도 제어 설정	설정30단 온도 조절기
접촉각 측정 방식	전자동, 반자동, 수동
분석 방법	정적법 (2/3 상태), 좌적법, 현적법
분석 방법	정적 분석, 윤습 동태 분석, 실시간 분석, 양자 분석
테스트 방법	원법, 타원/ 사타원법, 미분원/미분타원법,Young-lapalace、너비, 탄젠트, 구간법
표면자유에너지
테스트 방법	Zisman、OWRK、WU、WU 2、Fowkes、Antonow、Berthelot、EOS、접착공, 침습공, 전개계수
데이터 처리
출력 방식	자동 생성, 내보내기 가능/ EXCEL, Word, 스펙트럼 등 다양한 보고서 형식 인쇄

표준 액세서리 옵션	아래 부속품은 표준 조립품이며, 자체 측정 요구에 따라 신체를 재어 제작할 수도 있다
가열관
	99.99% 순도 높은 산화알루미늄 재질 가열관 및 석영관 사양: 길이 1000mm，파이프 외경 60mm, 내경 50mm
그릴팬
	99.99% 순도 높은 알루미늄 재질 기판 크기:49mm × 49mm, 45mm × 45mm
고속 카메라
	높은 프레임 속도 테스트 요구 사항에 주로 사용되는 고객 다중 세트 사양 옵션, 최대 프레임 속도:초당 4500 프레임
Plasma 플라즈마 장치
	재료 표면의 활성을 높이고 재료 표면의 자유 에너지를 높이며 접촉각의 각도를 낮추는 데 사용 옵션: 대기, 진공, 마이크로웨이브, 광폭 등의 장치

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