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한문 자외선 오존 세척기

협상 가능업데이트12/14
모델
제조업체의 성격
생산자
제품 카테고리
원산지 Place of Origin
개요
한문 자외선 오존 세척기는 무기 기재 (예: 석영, 실리콘 조각, 금, 니켈, 알루미늄, 갈륨비소, 산화알루미늄 등) 표면 유기 오염물 제거에 사용되는 표면 세척 설비이다.
제품 정보

자외선 오존 세척기

HWUVO-3/HWUVO-6/HWUVO-9는유형

한문 자외선 오존 세척기계기 소개

자외선 오존 세척기는 무기 기재 (예: 석영, 실리콘 조각, 금, 니켈, 알루미늄, 갈륨 비소, 산소알루미늄 등) 표면의 유기오염물을 제거하는 표면세척설비.

저압 자외선 수은등은 파장을 동시에 발사할 수 있다254nm185nm의 자외선, 이 두 가지 단파 자외선의 조사 하에 활성화 유기물 분자와 활성 산소 원자가 산화 반응을 일으켜 휘발성 기체를 생성하여 샘플 표면에서 빠져나와 샘플 표면에 달라붙은 유기 오염물을 제거한다.

한문 자외선 오존 세척기응용 분야

1인쇄회로기판 조립인쇄회로기판) 생산 중 광세척을 진행하면 도선 용접 시 용접의 접촉 면적을 높이고 연결 강도를 증가시켜 인쇄회로기판의 품질을 향상시킬 수 있다;

2LCD는OLED는생산 중 광세척을 진행하면 기체 표면의 윤습성을 높이고 나아가 기체 표면의 접착력을 강화할 수 있다;

3집적회로 분야에서 광세척은 표면의 원자 청결도를 실현할 수 있을 뿐만 아니라 칩 표면에 손상을 초래하지 않는다;

4반도체 접착력 향상, 컬러필터 표면 유기오염물 세척, 광학유리 도금 향상에 사용 가능 필름 품질 등 장면;

5파라핀, 송향, 유지, 인체체유, 잔여 포토레지스트, 에폭시 수지, 용접제 제거;그리고 산화막이 있는 금속 표면 처리, 전도성 폴리아미드 접착제의 유기 오염물 제거, 광세척은 모두 매우 효과적인 방법이다.

기능 특징

1.1채택작동 시간, 가열 온도, 공기 조절을 위한 5인치 컬러 터치스크린 제어회로 유량 등 프로세스 매개 변수

1.2가열, 승강 일체형 샘플대, 승강 여정50mm,샘플과 UV 램프의 간격 조절 용이

1.3샘플대 항온 제어, 스마트PID 온도 조절, 설정 범위 RT~200 ℃, 온도 조절 정밀도 ± 1 ℃

1.4유량, 가열,UV 램프는 각각 자동으로 개별적으로 켜짐과 끄기를 제어하며, 처리 중 수동으로 중단할 수 있다

1.5 조합식처리 방식자유선택: 시료대 가열 기능 사용 여부, 산소 공급로 열기

1.6세척 매개변수 설정을 자동으로 저장하고 실험 데이터가 잊혀지지 않도록 기록 생성

1.7안전신뢰성,장치 작동 중 세척창고뚜껑을 열다자동 종료UV등 및 탄창 힌트, 자외선 피해 방지

1.8표준 트래픽 디지털 디스플레이(산소 또는 오존에 액세스 가능), 가스 공급량 조절 가능

1.9상부식 견본대 및 상부 뒤집기식 오픈 덮개 설계로 견본품을 쉽게 찾을 수 있고 조작이 간단하고 빠르다

1.10파장254nm 및 185nm 듀얼 웨이브 UV 램프 소스, 약 8000 시간의 램프 수명, UV 반사 덮개를 장착하여 샘플의 균등화

1.11 원클릭 작업으로 작업 강도를 줄입니다.

기술 매개변수

계기 모델

UV는O는-3

UV는O-6은

UV는O-9는

모양새 그림

HWUVO-3紫外清洗机.png


HWUVO-9紫外清洗机1.png


HWUVO-6紫外清洗机.png


그리드 크기/ mm

220*270

130*130

230*230

견본대 크기/ mm

220*270

150*150

220*270

견본대 승강 여정/ mm

50

50

50

가열 온도 범위/

실온-200

트래픽 범위(ml/분)

옵션

0-1000

0-1000

폼 팩터 크기(L * W * H) / mm

450*390*270

445*300*245

500*360*250

호스트 무게/ kg

10

11.5

15

UV는광파장

185nm, 254nm

UV는등관

이중 파장 램프

일체형 저압 수은 증기 그리드등

등관 수명

5000시간

8000시간

본체 재질

304스테인리스강, 플라스틱

304 스테인리스 및 알루미늄

보안 기능

--

창고뚜껑 이 열리면 등관 이 저절로 꺼진다