홀 이온원

홀 이온원eH2000eH30001978년 코프만 박사는 미국에서 Kaufman & Robinson, Inc를 설립하여 코프만 이온 소스와홀 이온원.미국 코프만 이온원은 40여 년의 침전 및 발전을 거쳐 이미 고객의 큰 인정을 받았다.이온원은 이온 세척, 이온 식각, 보조 도금, 이온 사출 퇴적 분야에 광범위하게 사용된다

홀 이온원eH2000eH3000 기술 매개변수：

피홀 이온원그리드리스 eH시리즈

eH는시리즈홀 이온원패브릭 컴팩트,속류가 크고 에너지가 낮으며 투사 면적이 크다,박막 및 표면을 나노 정밀도로 효과적으로 처리할 수 있다,프로세스 프로세스 제공보조 도금, 사전 세척 등 다양한 기능, 풍부한 모델 만족 과학 연구, 공업 등 다양한 응용,

다음과 같은 특징이 있습니다.

격자선 없음

고전류 저에너지

발산광속>45도

신속한 양극 교체 가능 모듈

다양한 중화기 선택 가능

미국피코프만 이온원그리드 KDC시리즈

미국피코프만 사의 코프만 이온원KDC는시리즈는 다양한 응용 프로그램을 위해 다양한 크기의 이온 소스를 포함합니다.. 코프만 이온원KDC는전체 시나리오 제공，코프만 이온원 포함,전자 중화기,전원 공급기 등등 각종 진공 설비에 직접 통합할 수 있다,예를 들어 랩 소규모 연구 개발,도금기, 로드 잠금,사출 시스템,롤링 도금기 및 선형 도금.

피무선 주파수 이온원그리드 RFICP시리즈

무선 주파수 이온원RFICP는시리즈, 무선 코일을 통한 플라즈마 생성,격자망으로 이온 빔의 에너지와 방향을 제어하다,정밀 박막 과 표면 처리 를 만드는 데 유용한 도구 이다,막층의 치밀성, 광투사, 균일성, 부착력 등을 효과적으로 개선하다，공정에 안정적인 지원을 제공합니다.

RFICP는전체 포트폴리오를 제공하는 제품군,이온 소스 포함,전자 공급기,중화기,전원 제어 등