형광 분광 광도계

형광 분광 광도계: 전기화학 샘플 중의 형광 연구에 사용되며, 연구 스펙트럼 범위가 넓고, 측정 민감도가 높으며, 광원 강도가 안정적이며, 이 기기는 전기화학 샘플 (고체 상태와 액체 상태) 중의 형광 연구에 사용하도록 설계되었다.시료를 포획할 수 있는 발사 스펙트럼과 자극 스펙트럼.시료는 200~1200nm 범위의 백색광과 단색광의 두 가지 방식으로 조사할 수 있다.혁신적인 광 강도 안정 모드를 갖춘 고효율 제논 램프는 시스템에서 흰색 광원으로 사용됩니다.Air Mass 1.5G 필터와 함께 사용하면 태양 스펙트럼을 시뮬레이션할 수 있습니다.견본실 입구에 래스터 하나를 놓았다.래스터는 자동으로 조절되는 입력 슬롯 (제논 램프 소스의 빛이 이 슬롯을 가리키는 것) 과 출력 슬롯 (빛이 이 슬롯에서 샘플실 입구를 가리키는 것) 을 갖추고 있다.좁은 틈의 폭을 조절하면 입사광의 강도를 제어할 수 있다.

이 기기는 전기 화학 시료 (고체 및 액체 상태) 에서 형광 연구에 사용하도록 설계되었습니다.시료를 포획할 수 있는 발사 스펙트럼과 자극 스펙트럼.샘플은 두 가지 방법으로 조사할 수 있습니다.
200~1200nm 범위의 백색광과 단색광.혁신적인 광 강도 안정 모드를 갖춘 고효율 제논 램프는 시스템에서 흰색 광원으로 사용됩니다.Air Mass 1.5G 필터와 함께 사용하면 태양 스펙트럼을 시뮬레이션할 수 있습니다.견본실 입구에 래스터 하나를 놓았다.래스터는 자동으로 조절되는 입력 슬롯 (제논 램프 소스의 빛이 이 슬롯을 가리키는 것) 과 출력 슬롯 (빛이 이 슬롯에서 샘플실 입구를 가리키는 것) 을 갖추고 있다.좁은 틈의 폭을 조절하면 입사광의 강도를 제어할 수 있다.

샘플실 출력단에 두 번째 래스터를 배치합니다.이 래스터들은 시료의 발사광을 포획할 수 있다.래스터의 출력 좁은 틈새에서 컨트롤러와 카운터에 연결된 광전 배율 증폭관은 형광 광자를 포획한다.전체 형광 스펙트럼을 정확하게 정의할 수 있습니다.래스터 구조는 또한 전체 형광 광 강도를 측정 할 수 있습니다 (모든 발사 파장을 동시에 캡처 할 수 있습니다).샘플실 입구와 출력단의 필터 휠은 시스템의 잡산광도 줄일 수 있다.

추가 광원 (할로겐 램프) 과 추가 광전 배율 튜브를 사용하여 시스템의 스펙트럼 범위를 1800 nm로 확장 할 수 있습니다.

전체 기기의 성능은 자동화된 것이다.시스템 작업은 전문적이고 직관적인 소프트웨어를 통해 이루어진다.

측정된 매개변수:

형광 자극 스펙트럼 /

형광의 발사 스펙트럼

형광 분광 광도계모듈

폐쇄형 견본실 /

UV, VIS, IR 범위 내에서 작동하는 두 개의 래스터 (견본실 입구 및 출력단)

시료 형광을 포획할 수 있는 래스터 출력단의 광전 배율 증폭관,

광전 배율 증폭관 신호를 처리하는 전자 카운터,

전기 화학 워크스테이션은 제어 모드에서 작동하며 광전 배율 증폭관에 연결됩니다.

샘플 조립 (특정 샘플 유형에 맞게 사용자 정의 가능),

샘플실 입구와 출력단의 두 개의 필터 바퀴는 6개의 독립된 필터 위치를 가지고 있다.

컨트롤러와 수냉 시스템을 갖춘 제논 램프,

전류 입사 빔의 강도를 제어하는 IPCE 포토다이오드 /

전용 FotoGUI 소프트웨어가 있는 컴퓨터

기술 지표:

옵티컬 배율 튜브: 감도 조절 가능(500~1200V 범위에서 전압 조절), 스펙트럼 범위: 160~900nm,

래스터 스펙트럼 범위: 200~1200nm(1800nm까지 확장 가능 – 추가 래스터 필요),

제논 램프: 세 가지 안정 모드: (광강도, 램프 전류 및 램프 출력), 스펙트럼 범위: 200-1200nm

Air Mass 1.5G,

샘플 유형에 따라 맞춤형, 개인화 및 조절 가능한 샘플 구성 요소,

입사 광선 스펙트럼 범위는 1800 nm까지 확장 가능하며 추가 광원 (할로겐 램프) 이 필요합니다.