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전자급 EW-I/II/III/IV 초순수 시스템

협상 가능업데이트05/07
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개요

전자급 EW-I/II/III/IV 초순수 시스템 개요 현재 반도체, 집적회로칩 및 패키지, 액정표시장치, 고정밀 회로판, 광전기부품, 각종 전자부품, 마이크로전자공업, 대규모, 초대규모 집적회로는 대량의 순수, 초순수 물세척 완제품, 반제품을 필요로 한다.집적회로는 집적도가 높고 선폭이 좁을수록 수질에 대한 요구도 높다.

제품 정보

전자급 EW-I/II/III/IV 초순수 시스템개요:

현재 반도체, 집적회로칩 및 패키지, 액정표시장치, 고정밀 회로판, 광전기부품, 각종 전자부품, 마이크로전자공업, 대규모, 초대규모 집적회로는 대량의 순수, 초순수 세척 완제품, 반제품을 필요로 한다.집적회로는 집적도가 높고 선폭이 좁을수록 수질에 대한 요구도 높다.현재 우리나라 전자공업부는 전자급 초순수를 네 등급으로 하고 있는데, 각각 EW-I급 ≥ 18M · cm, 전규소≤ 2ug/L, EW-II급 ≥ 15M · cm, 전규소≤ 10ug/L, EW-III급 ≥ 12M · cm, 전규소≤ 50ug/L, EW급 ≥ 0.5M · cm, 전규소급 ≤ 100cm로 구분하고 있다.그 중 초순수에 대한 관건적인 지표, 예를 들면 전도도 (전저율), 총 실리콘, PH값, 과립도, 미생물 등은 모두 다른 요구에 의해 요구된다.따라서 선로판, 회로판은 순수한 물을 사용하고 초순수는 그 자체의 공정 절차에 따라 초순수 제조에 대한 공정도 다르다.

电子级EW-I/II/III/IV超纯水系统

1. 예비처리시스템 반침투시스템 중간물탱크 굵은 혼합침대 정밀혼합침대 순수물탱크 순수물펌프 자외선기 포광혼합침대 정밀여과기 용수점 (≥18MCM)

2. 예비처리시스템 반침투 중간물탱크 물펌프 EDI장치 순화물탱크 순수물펌프 자외선기 포광혼상 0.2 또는 0.5μm 정밀여과기 용수점 (≥18MCM)

3. 예비처리시스템 1급 반침투가약기 (PH조절) 중간물탱크 2급 반침투 (양전하 반침투막) 순수물탱크 순수물펌프 EDI장치 자외선기 0.2 또는 0.5μm 정밀여과기 용수점 (≥17MCM)

4, 사전 처리 시스템 반침투 중간 물탱크 물펌프 EDI 장치 순수 물탱크 순수 물펌프 자외선기 0.2 또는 0.5 μm 정밀 여과기 물점 (≥ 15MCM)

5, 사전 처리 시스템 반침투 시스템 중간 물탱크 순수 펌프 굵은 혼합 침대 정밀 혼합 침대 자외선 기계 정밀 여과기 용수점 (≥ 15MCM)

전자반도체 초순수 시스템은 보통 국가 수돗물 표준의 물을 원수로 직접 접속하며, 보통 다중매체 필터, 활성탄 필터, 정밀 필터 등이 예처리 시스템을 구성하고, RO 반침투 호스트 시스템, 이온교환 혼상(EDI 전기제염 시스템) 시스템 등이 주요 설비 시스템을 구성한다.시스템 물탱크에는 액위 제어 시스템이 설치되어 있고, 펌프에는 고저압 압력 보호 장치, 온라인 수질 검측 제어 계기, 전기는 모듈화 조합 PLC 및 통신을 원격으로 중앙 제어실 상위기로 수송하여 현장 현지 및 집중 제어 두 가지 조작 방식을 실현하여 인공의 조작 복잡도와 유지보수 작업량 등을 낮추고, 동시에 공예 재료 선택에 있어서 추천과 고객 요구가 통일된 방법을 채택하거나 회사가 고객의 수질에 대한 특수 설비 요구에 따라 수질을 비교할 수 있으며, 동시에 동종 수질과 수요에 따라 수질을 비교하여 수질을 비교할 수 있다.

전자급 EW-I/II/III/IV 초순수 시스템용수 기준:

미국 ASTM 순수 수질 표준, 전자공업부 고순수 수질 시범 표준, 미국 반도체 공업용 순수 지표, 일본 집적회로 수질 표준, 국내외 대규모 집적회로 수질 표준에 부합

전자급 초순수 시스템 선택표:

모델 번호

산수량

(L/H)

전압 / 전력 범위

(V/Kw)

장치 호스트 크기

(L*W*H mm)

순수한 물탱크

산수 수질

ZYUP-DH/E-250L

250

380 / 1.95

2000*800*1600

질소 탱크

국가 전자급 용수 표준에 부합하다.

ZYUP-DH/E-500L

500

380 / 2.05

2000*800*1600

질소 탱크

ZYUP-DH/E-1000L

1000

380 / 2.20

2000*800*1600

질소 탱크

ZYUP-DH/E-1500L

1500

380 / 2.80

2500*1000*1700

질소 탱크

ZYUP-DH/E-2000L

2000

380 / 3.96

2500*1000*1700

질소 탱크

ZYUP-DH/E-3000L

3000

380 / 6.65

3000*1200*1800

질소 탱크

ZYUP-DH/E-4000L

4000

380 / 6.80

3000*1200*1800

질소 탱크

ZYUP-DH/E-5000L

5000

380 /11.05

3500*1300*2000

질소 탱크

참고: 1. 장치 크기는 참고용으로만 제공되며 사용자의 요구에 따라 맞춤형으로 제작할 수 있습니다.

电子级EW-I/II/III/IV超纯水系统

电子级EW-I/II/III/IV超纯水系统

电子级EW-I/II/III/IV超纯水系统

1. 전해콘덴서 생산 알루미늄 포일 및 작업 부품의 세척

2. 전자관 생산, 전자관 음극 도포 탄산염 배액

3. 현상관과 음극선관 생산, 재료용 순수한 물

4, 흑백 영상 관 형광 스크린 생산, 유리 껍질 세척, 침전, 습윤, 세막, 관 목 세척용 순수한 물

5. 액정표시장치의 생산, 스크린은 순수한 물로 세척하고 순수한 물로 액체를 배합해야 한다

6. 트랜지스터 생산 중 주로 실리콘 조각을 세척하는 데 사용되며, 또 소량은 약액 조제에 사용된다

7. 집적회로 생산 중 고순수 세척 실리콘 조각

8. 반도체 소재, 부품, 인쇄회로기판 및 집적회로

9, LCD LCD, PDP 플라즈마 디스플레이

10. 고품질 영상관, 형광분말 생산

11. 반도체 재료, 웨이퍼 재료 생산, 가공, 세척

12. 초순도 재료와 초순도 화학 시약, 초순도 화학 재료