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안휘성 합비시 쌍봉경제개발구 쌍돈로 중남고과산업단지 38동 2층
개요
CMP 장비 전용 유량계 UFM400 시리즈 초음파 유량계 $r$nCMP, 즉 화학 기계 광택은 실리콘 표면을 화학과 기계를 결합한 방식으로 정확하게 연마하고 광택을 내는 기술이다.바로 이 기술의 하드웨어기초로서 규소조각표면의 전반 국면의 평탄화를 실현하여 후속공정에 량호한 기초를 제공할수 있다.CMP 장비는 반도체 제조 분야의 핵심 공정 장비다.
제품 정보
CMP 장치 전용 유량계 UFM400 시리즈 초음파 유량계
1. 화학기계포광(CMP) 기본개념:
CMP，즉 화학기계포광은 화학과 기계를 결합하는 방식으로 규소조각의 표면을 정확하게 연마하고 광택을 내는 기술이다.바로 이 기술의 하드웨어기초로서 규소조각표면의 전반 국면의 평탄화를 실현하여 후속공정에 량호한 기초를 제공할수 있다.CMP 장비는 반도체 제조 분야의 핵심 공정 장비다.
CMP 장치 전용 유량계 UFM400 시리즈 초음파 유량계
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