반도체 업계는 수질에 대한 요구가 가혹하며, 초순수는 생산의 핵심 소모품으로서 그 품질은 칩 양품률에 직접적인 영향을 미친다.반도체 초순수는 다차원 지표를 만족시켜야 한다: 저항률이 18.2Mº.cm (25 ℃) 이상이어야 하며, 이온 함량이 매우 낮음을 확보해야 한다;TOC(총 유기탄소)는 광각 정밀도에 영향을 주지 않도록 0.5ppb 이하로 제어한다.0.05㎛ 이상의 미세먼지는 리터당 100개를 넘지 않아 광각 결함을 방지한다.용해산소는 1ppb보다 낮아 세균의 자생과 산화층의 형성을 억제한다.
초순수 응용은 반도체 전체 생산 공정을 관통한다: 웨이퍼 제조 단계는 청결하고 잡동사니를 제거하며 표면 결정도를 보장하는 데 사용된다;광각 공정에서 템플릿과 웨이퍼를 깨끗이 씻어 도안이 정확한지 확보한다.각식, 기계 광택 고리는 냉각 세척 작용을 하여 공정의 일치성을 유지한다;전자화학퇴적단계에서 금속박막을 청결하여 퇴적의 정확성을 보장한다.장비 냉각 및 실험실 실험에도 사용할 수 있어 데이터의 신뢰성을 보장합니다.
초순수원은 수돗물에서 수돗물로 다공예 심층처리를 거쳐야 한다: 앞부분은 ACF, UF, RO, EDI 등 공법을 통해 TOC를 수돗물의 1-3ppm에서 10-30ppb로 낮춘다;다시 TOC-UV 램프 장치를 거쳐 ≤ 0.5ppb로 더 낮아져 최종적으로 표준에 도달했다.검측면에서 미립자는 액체립자계수기로 검측하고TOC、저항률, 용해산소, pH 등 지표는 온라인 감측기 (예: 전기화학기기) 를 통해 실시간으로 검측하며, 일부 장면은 시스템을 통합하여 수질 동태 관리 통제를 실현해야 한다.
모니터링 주기는 작업 상황과 수질 변화 설정과 결합하여 정기적으로 샘플을 채취하여 분석하고, 수질 문제를 적시에 발견하여 총 유기탄소가 기준치를 초과하고, 용해 산소가 너무 높으며, 과립물이 너무 많은 등으로 인해 칩의 품질이 떨어지거나 생산 손실이 발생하지 않도록 해야 한다.반도체 부품의 크기가 줄어들고 정밀도가 향상됨에 따라 초순수 모니터링은 업계의 날로 가혹해지는 수질 수요에 맞게 검사 정밀도와 기술 (예: 원격 모니터링) 을 지속적으로 업그레이드해야 한다.