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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
초구조 표면 무마스크 레이저 직사 광각기 공장-나찰 3차원 Nanoscribe, 벨 해제는 아직 벨을 매야 한다!
날짜:2025-10-30읽기 :0
초구조표면은 아파장척도의 인공원자로 구성되여 가공정밀도, 표면질량과 설계자유도에 대한 요구가 극히 _ 높다.
이중 광자 마스크 없는 광각 기술의 선구자로서, 그 Quantum X 시리즈 마스크 없는 레이저 직사 설비는 전문 _ 리쌍 광자 그레이스케일 광각 기술을 탑재하고 있으며, 최소 특징 크기는 160nm, 표면 거친도 ≤ 10nm에 달한다. 그 중 Quantum X align 시스템은 나노급 정밀도를 갖추고 있으며, 광섬유, 칩 및 웨이퍼에서 높은 3차원 구조를 제조할 수 있으며, 정밀 가공이 초정밀 구조의 3차원 구조는 중국 표면 구조, 나노 구조 보급을 담당할 수 있다.
기술적 특징: Photonic Professional GT 시리즈는 업계 표준 _ 봉인 이중 광자 집합 (TPP) 3D 광각 기술에 중점을 둡니다.
장점: 진정한 3차원 마이크로 나노 구조 가공을 실현할 수 있고, 해상도는 100나노미터 심지어 더 높으며, 특히 복잡한 3차원 형상을 가진 초구조 표면 (예: 각방향 이성 나노 기둥 배열) 을 제작하기에 적합하다.
적용성: 선진적이고 복잡한 3D 초구조 표면을 연구 개발하는 데 이상적인 선택이다.
초구조 표면의 아파장 구조 조정 수요는 광각 설비에 대해 거의 가혹한 요구를 제기한다.납찰 3차원 Nanoscribe퀀텀 X 시리즈 장비는 160nm 3차원 횡적 특징 척도 제어와 ≤ 10nm의 표면 조잡도 표현으로 자유 곡면, 연사 배열 등 복잡한 구조 가공을 쉽게 제어할 수 있다.코어 2GL® 기술은 그레이스케일 광각의 고효율과 이중 광자 중합의 정확성을 융합하여 1MHz 속도를 통해 레이저 출력을 동적으로 조절하여 나노에서 중척도까지의 다차원 제조를 실현하고, 초구조 표면의 광위상, 진폭에 대한 정밀 조절 수요를 완_미적으로 적합하다.
최전방 과학 연구에서, 이 설비는 이미 기술 병목 현상을 돌파하는 관건이 되었다.모 팀은 그가 제조한 광대역초구조표면의 힘을 빌어 색산공초점기술중의"측정범위와 해상도"의 고유모순을 성공적으로 해결하여 100마이크로메터의 축방향범위내의 가로해상도를 1마이크로메터로 안정시키고 성능을 2.5배 제고시켰다.생체 감지 분야에서 과학 연구원들은 일체화 가공 능력을 이용하여 초소수 구조와 나노 광자 소자를 통합한 센서를 출력하여 바이러스 검출 민감도를 0.1 TCID50/mL로 향상시키고 검출 시간을 15분으로 단축한다.