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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
그레이스케일 광각광 커넥티드 나노 제조 솔루션, 장비 제조업체 나찰 3D Nanoscribe가 해독합니다!
날짜:2025-11-03읽기 :0
그레이스케일 광각 광연결 나노 제조란 그레이스케일 광각 기술을 이용하여 광연결에 필요한 각종 핵심 3차원 마이크로나노 광학 구조를 일회성, 고정밀도로 제조하는 것을 말한다.
그레이스케일 광각 광 상호 연결 나노 제조 솔루션은 고정밀도, 고효율 등 우세로 광 상호 연결 나노 제조 난제를 해결하는 중요한 경로가 되었으며, 나찰 3차원의 관련 솔루션은 비교적 강한 대표성을 가지고 있으며, 다음은 구체적으로 소개한다.
핵심 기술: 나찰 3차원의 그레이스케일 광각 광 상호 연결 나노 제조 솔루션 핵심 기술은 이중 광자 그레이스케일 광각 기술 (2GL)®)。이 기술은 회색조 광각의 뛰어난 성능과 이중 광자 중합의 독특성과 유연성을 결합하여 고주파 레이저 진동 렌즈와 100MHz 동적 체소 조정 기술의 심도 있는 협동을 통해 마스크 없는 직사식 3D 프린팅을 실현하여 체소 크기와 에너지를 실시간으로 조절할 수 있으며 여러 겹의 슬라이스 없이 3차원 미나 구조를 한 번에 성형할 수 있다.
장치 지원: QuantumX 시리즈는 QuantumXalign 시스템 표면 거친도 ≤ 10nm, 특징 크기 제어 100nm 수준, 광섬유 단면, 광자 칩에 자유 곡면 미광학 소자를 직접 인쇄할 수 있는 듀얼 광자 그레이스케일 레이저 직사 시스템이며, 3D 자동 광섬유 코어 감지를 통해 기판 토폴로지 매핑을 통해 마이크로미터급 자동 매핑을 완료하여 1dB 손실로 감소합니다.QuantumXlitho 시스템은 유리 유리 또는 최대 6인치 실리콘 웨이퍼와 같은 다양한 유형의 기저를 처리할 수 있으며, 빠른 성형, 소량 생산 및 복제 공정에서 효율적으로 모판을 제조하기 위해 설계되었습니다.
공정 우세: 첫째, 초고정밀도 결합 구조 가공, 가공 해상도가 100나노미터 이하로 낮고, 광학급 표면 조잡도 (Ra<5nm), 광섬유-칩, 칩-칩 결합에 필요한 마이크로 렌즈 배열, 그라데이션 굴절률 렌즈 등 구조를 직접 인쇄할 수 있으며, 광자 부품 결합 손실을 1.5dB 이내로 제어할 수 있다.둘째, 다재료 호환과 이질 집성, 포토레지스트, 유리, 실리콘 기재 및 생물 상용성 재료 등 다양한 광자 포장 상용 기저를 지원하여 동일한 칩에서"미광학 구조 + 전도성 상호 연결 통로"의 일체화 인쇄를 실현할 수 있다.셋째, 광자결정 공경 <200nm와 같은 나노미터급 정밀 특징을 실현할 수 있을 뿐만 아니라 마이크로스트림 제어 광학 칩과 같은 밀리미터급 전체 구조를 모두 고려할 수 있다.
응용 장면: 이 솔루션은 광자 패키지"연구개발-양산"전체 링크를 커버한다.대학교와 과학연구기구를 대상으로 1~2일 내에 신형 광자 결합 구조의 원형 제조를 완료할 수 있으며, 초구조 표면, 양자 광자 부품 등 최전방 기술 연구 개발에 힘을 보탤 수 있다;산업단을 대상으로 6인치 웨이퍼급 가공 플랫폼과 자동화 프로세스 설계를 통해 광통신 마이크로렌즈 어레이, MEMS 광학 스위치 등 부품의 소량 생산을 실현하고 마스크를 교체하지 않고도 제품 모델을 전환할 수 있어 생산 효율이 기존 공정보다 30% 이상 향상되었다.