마스크 없는 광각 장치고정밀 광학 시스템을 통해 회로 도안을 광민 재료에 직접 투사하는 공정 시험 기기로, 전통적인 광각에 필요한 마스크판 제작 단계를 없앴다.이 설비는 광학류와 대전체립자류로 나눌수 있는데 여기에는 레이자직사, 전자빔직사 등 기술류형이 포함된다.반도체 제조에서 그 현저한 우세는 광각 효율을 제고하고 생산 원가를 낮추며 연구 개발 주기를 단축하는 것이며, 생물 칩, 마이크로 컴퓨터 전기 시스템 및 선진 포장 분야에 광범위하게 응용된다.
무마스크 광각기는 공간 광모뎀 스캐닝 기술이나 대전체 입자빔 직사 방식을 기반으로 디지털 판도를 직접 광각 접착제의 물리적 도형으로 전환시켜 무마스크의 빠른 성형을 실현한다.핵심 기술 지표에는 최소 선가중치, 자동 해상도 전환 및 그레이스케일 포토레지스트 기능이 포함됩니다.
응용 분야
마이크로 흐름 제어 칩 연구 개발: 마이크로 유체, 마이크로 전자 등 분야의 연구에 적용된다.
전력칩 광각: 탄소관 집적회로 다판도 실험을 지원한다.
3D 광학 소자: 그레이스케일 광각 기술은 3차원 구조 가공을 실현한다.
트릭 나노 UV-Smart 마스크 없는 포토레지스트 장비의 핵심 기능은 다음과 같습니다.
고정밀 가공: 디지털 마이크로미러 (DMD) 기술을 사용하여 300nm 선폭 정밀도를 실현하고 접합 오차가 극히 적으며 구조 가장자리가 매끄럽다.
고효율 직사 속도: 분당 300mm²를 가공할 수 있어 빠른 모델링 및 소량 생산에 적합하다.
전자동 제어: 집적화 설계, 조작 간편, 12인치 기재 지원, 마이크로 흐름 제어, 반도체 등 분야에 적용.
공업급 응용: 자체 연구 알고리즘과 고성능 하드웨어를 결합하여 높은 조준, 세트 정밀도를 갖추고 대규모 생산 수요를 만족시킨다.