Sensofar S neox는 공초점, 간섭, 다초점면 중첩 기술의 원활한 전환을 통해 나노급 매끄러운 표면에서 밀리미터급 거친 구조까지 전 범위의 측정 커버를 실현했다.
공초점 기술은 바늘구멍을 통해 비초점 광선을 필터링하여 고명암비 2차원 이미지를 획득하고 세로로 스캔한 후 3D 형상을 구축한다.이 모드는 가로 해상도가 0.10μm에 달하며 150배, 0.95 수치 공경 렌즈를 매치할 때 매끄러운 표면 측정 경사율이 70 °, 거친 표면이 86 ° 에 달해 Z축 측정 중복성이 나노급으로 안정된다.반도체 칩의 회선 형태 검측과 같은 미세한 선, 틈새 등 정교한 구조의 식별에 적용된다.
백광 간섭과 위상 이동 간섭 모드는 서로 다른 매끄러운 표면에 최적화되어 있습니다: 백광 간섭은 세로 해상도 0.1nm로 약간 거친 표면에 적합합니다.위상 이동 간섭은 다야 나노급 정밀도로 초광활 표면을 위해 설계되었으며 둘 다 증폭 배수의 영향을 받지 않는다.다초점면 중첩기술은 거친 표면에 초점을 맞추고 1회 스캔 깊이가 8mm로 금형, 증재 제조 부품 등 복잡한 구조의 측정 수요에 대응할 수 있다.
이러한 모드의 전환은 스마트 광학 엔진을 통해 자동으로 완료되며, 사용자가 한 번만 클릭하면 시스템은 측정 임무의 특성에 따라 적합한 기술을 선택할 수 있다.예를 들어 광학 렌즈의 초광활 표면을 측정할 때 위상 이동 간섭으로 자동으로 전환합니다.몰드의 거친 구조를 체크할 때 다초점 중첩 모드를 시작합니다.
기술 모델 적합도 표
모드 적합성을 수동으로 판단하지 않고도 사용할 수 있으며, 소프트웨어는 미리보기 이미지의 표면 특성에 따라 자동으로 추천하거나 고급 설정에서 수동으로 선택할 수 있습니다.이 설계는 전자, 자동차, 의료 등 여러 업종의 측정 수요를 포괄하는 서로 다른 샘플에 대한 설비의 적응 능력을 대폭 향상시켰다.