도금탄소도금일체기는 고진공다기능도금기로서 그 설계우세는 모듈화구조, 지능화통제, 고정밀도금, 안전보호메커니즘 등 면에서 집중적으로 구현되며 구체적으로 다음과 같이 분석한다.

1, 이중 구성 요소 모듈식 설계: 기능 통합 및 유연한 전환

이 장비는 자기 제어 사출 부품 (도금) 과 열 증발 부품 (탄소 도금) 을 일체화하여 통합되었으며, 이중 독립 캐비티 설계를 통해 기능을 상호 보완합니다.

1.도금 기능: 자기 제어 사출 원리에 기초하여, 고에너지 이온을 이용하여 금속 표적재 (예: 금, 백금, 은 등) 를 폭격하여 금속 원자를 샘플 표면에 퇴적시켜 치밀한 전도막을 형성한다.이 기술은 전극 제조, 전기 화학 분석 등 장면에 적용되며, 샘플의 전도성 및 부식 저항성을 현저하게 향상시킬 수 있다.

2. 탄소 도금 기능: 열 증발 원리를 사용하여 고온으로 탄소 섬유나 탄소 막대를 가열하여 탄소 원자를 기화시킨 후 샘플 표면에 퇴적하여 경질 탄소 막을 형성한다.이 기술은 전자현미경 (SEM) 샘플 전처리에 자주 사용되며, 전하 축적으로 인한 방전 현상을 제거하는 동시에 2차 전자/배산란 전자 신호를 강화하여 영상 품질을 향상시킬 수 있다.

3.원클릭 전환 모드: 7인치 컬러 터치스크린을 통해 도금 또는 탄소 도금 모드를 직접 전환할 수 있으며 구성 요소를 교체하거나 장치를 재부팅할 필요가 없어 운영 효율이 50% 이상 향상됩니다.

2. 도금 탄소 도금 일체 지능화 제어 시스템: 전 과정 자동화와 정확한 조정

설비는 전자동 제어 소프트웨어를 탑재하고 중영문 이중 언어 조작 인터페이스를 지원하여 도금 파라미터 (예를 들어 진공도, 퇴적 속도, 막층 두께) 의 실시간 모니터링과 동적 조정을 실현한다:

1.진공 시스템: 분자 펌프와 기계 펌프를 조합하여 10분 이내에 챔버 진공도를 10⁻Pa 이하로 낮추어 도금 과정에 오염이 없도록 합니다.

2. 퇴적속도 제어: 전원 출력과 기체 유량을 조절하여 금속 또는 탄소 원자의 퇴적속도(오차 ≤±1%)를 정확하게 제어하여 막층의 두께 균일성(±3% 이내)을 실현한다.

3.데이터 기록 및 내보내기: 시스템은 도금 파라미터와 실험 결과를 자동으로 기록하고, USB 또는 네트워크 전송을 지원하며, 후속 분석을 용이하게 합니다.

3. 고정밀 도금 기술: 나노급 입자와 균일 막층

설비는 사출 표적재와 증발원 설계를 최적화하여 도금막의 과립도와 막성의 이중 돌파를 실현한다:

1.입자도 제어: 도금 모드에서 금속의 입자 크기는 3~5nm (백금의 경우) 로 제어할 수 있으며, 전통적인 전기 도금 공정보다 훨씬 낮고, 막층의 밀도와 부착력을 현저하게 향상시킨다.

2.막층 균일성: 회전 샘플대와 동적 자기장 스캐닝 기술을 사용하여 막층 두께 편차가 ≤±2% 인지 확인하여 대면적 샘플 또는 복잡한 구조 샘플에 적용합니다.

4. 도금 탄소 도금 복합기 안전 보호 메커니즘: 소프트 하드웨어 상호 잠금 및 오염 방지 설계

장치는 하드웨어 및 소프트웨어 측면에서 다중 보안 체계를 구축합니다.

1.오염 방지 베젤 설계: 자기 제어 사출과 열 증발 챔버 사이에 승강 가능한 베젤을 설치하여 도금 과정 중 금속 입자가 탄소 증발원을 오염시키는 것을 방지하거나 탄소를 도금할 때 탄소 입자가 금속 표적재 표면에 퇴적되어 설비의 사용 수명을 연장한다.

2.소프트웨어와 하드웨어 상호 잠금 기능: 진공도가 표준에 도달하지 않거나, 전원 이상이 있거나, 캐비티 문이 닫히지 않았을 때, 시스템은 자동으로 조작 인터페이스를 잠그고 경보를 울려 오작동으로 인한 설비 파손이나 인원 상해를 피한다.

3.비상 정지 버튼: 장치에 빨간색 급정지 버튼이 장착되어 있어 0.1초 이내에 모든 전원과 가스 공급을 차단하여 돌발 상황에서 신속하게 대응할 수 있다.