자기 제어 이온 사출기

GVC-2000P는자기 제어 이온 사출기제품 특징:
1. 원클릭 조작으로 작업 완료 알림음을 갖추고 있다.
2. 도금막은 입자가 작고 열손상이 없다.
3. 표적재 교체는 매우 간단하다.
4. 특수 밀봉 구조로 유리가 쉽게 손상되지 않습니다.
5. 운영 마법사가 내장되어 있어 교육 없이 능숙하게 운영할 수 있습니다.

금 입자 크기(실리콘 칩 분사) 배터리 분리막 10만 배(백금 분사)

GVC-2000P는자기 제어 이온 사출기기술 시나리오

1.평면 자기 제어 사출 표적 헤드를 사용하여 표적 재료 사출을 진행하여 작업 과정 샘플에 열 손상이 발생하지 않도록 합니다.

2.ARM을 프로세서로 채택, 완전 자율 지적 재산권, 확장성이 좋고, 옵션:

a) 필름 두께 모니터링 부품: 예상 도금 두께를 미리 설정하여 작업 과정에서 도금 두께를 정확하게 제어할 수 있습니다.

b) 샘플대 가열 부품: 가열을 통해 막층의 치밀성과 기지와의 결합력을 높일 수 있다.

3.7인치 터치형 LCD 디스플레이, 해상도 800 × 480, 전체 디지털 디스플레이;

3.1 설정 가능: (1) 사출 전류,(2) 사출 시간;(3) 표적재의 종류;(4) 작업 진공도,(5) 작동 가스;(6) 화면 밝기와 같은 매개 변수;

3.2 표시: (1) 사출 전류,(2) 남은 시간 사출;(3) 작업 진공도,(4) 표적재 누적 사용시간;(5) 장치의 누적 사용 시간과 같은 매개 변수.

4.사출 전류: 2-100mA 연속 조정 가능, 최소 스텝은 1mA;

5. 사출 시간: 1-999s 연속 조정 가능, 최소 스텝은 1s；

6. 사출 진공: 4-20Pa 연속 조정 가능, 최소 스텝은 0.1Pa；

7.사출 표적재: 고순도 백금 표적 (순도 4N9) 으로 표준화되고 규격은57 × 0.12mm이다. 금, 은, 동, 금팔라듐합금 등 금속을 사출 표적재로 사용할 수도 있다.

8.진공실: 투광성이 높은 고규소붕소유리를 사용하며 크기는 약≥200×130mm이다.

9. 샘플대: 자전 가능한 스테인리스강 샘플대, 직경은125mm, 회전속도 4-20rpm 조정 가능;

10.표적 매개변수: 시스템은 공기와 아르곤에 대한 금, 백금, 은, 구리의 작동 매개변수를 제공하며 직접 사용할 수 있습니다.동시에 4가지 사용자 정의 표적재를 제공하여 사용자가 자신의 수요에 따라 작업 매개변수를 설정할 수 있다;

11. 사전 사출: 전자동 제어가 가능한 사전 사출 베젤로 작업 과정이 안정적이고 신뢰할 수 있도록 합니다.

12.원클릭 조작: 시스템은 자동으로 공기 흡입, 충전, 파라미터 조정, 사전 사출, 사출 도금 등 작업 과정을 완성할 수 있다;사출이 완료되면 진공펌프를 닫고 시스템이 자동으로 공기를 충전하여 진공 실내외 압력의 균형을 잡는다;

13.사출 전류와 진공도의 이중 상호 잠금을 갖추고 안전하고 신뢰할 수 있으며, 임의의 조건이 촉발되면 시스템은 작업을 중지할 수 있으며, 오작동으로 인한 설비 손상을 방지할 수 있다;

14.시스템은 피라니 진공 게이지를 진공 측정 소자로 사용한다;

15.극한 진공은 1Pa보다 우수하며 진공 펌프의 흡입 속도는 1.1L/s입니다.

16.실시간 곡선 디스플레이 사출 전류와 진공도 기능을 갖추고 있어 사용자가 시스템 작업 상태를 쉽게 이해할 수 있다;

17.전문적인 표적재 교체 구조를 채택하여 어떠한 도구도 필요 없이 표적재를 빠르게 교체할 수 있다;

18. 기기 전원 공급: AC220±10%V, 정격 전력 500W.