고진공 자기 제어 이온 사출기

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개요

GVC-2000TD 고진공 자기 제어 이온 사출기는 각종 금속, 단질, 무기 비금속 박막을 제조할 수 있다;진공이 깨지지 않는 상황에서 다층 복합막 제조를 실현할 수 있다.

제품 정보

高真空磁控离子溅射仪

1. GVC-2000TD 고진공 자기 제어 이온 사출기 제품 장점:

1. 각종 금속, 단질, 무기 비금속 박막을 제조할 수 있다;

2. 진공을 깨뜨리지 않는 상황에서 다층 복합막 제조를 실현할 수 있다;

3. 원클릭 조작, 전자동 제어, 지능화 정도가 높다;

4. 일치성, 중복성이 좋다;

5. 다중 표적재 작업 매개변수를 내장하여 도금 공정을 모색할 필요가 없다;

6. 부피가 작고 구조가 치밀하여 공간을 매우 절약한다.

　　2. GVC-2000TD 고진공 자기 제어 이온 사출기 제품 매개변수:

폼 팩터 (호스트)	424 (L) ×345 (D) ×420 (H)	입력 전원	220V/50Hz의 1000W
과녁 에 사출 하다 1	직류 자기 제어 사출	가용 표적재	금속 표적재
과녁 에 사출 하다 2	무선 주파수 자기 제어 사출	가용 표적재	무기 비금속 표적재
진공 시스템	터빈 분자 펌프+회전식 진공 펌프	속도를 올리다	90L/s + 1.1L/s
진공 측정	복합식 진공 게이지	측정 범위	1E-3 ~ 1E5Pa
진공실	φ 200 × 130mm 고붕소 규소 유리	숨 쉬는 박자	10 분 (≤5E-3Pa）
견본대 크기	φ 90mm	견본대 전환	자동 제어
사출 표적재 크기	φ 57mm(두께 0.1-2mm）	작업 진공	0.1-2Pa
작업 인터페이스	7 인치 TFT는 터치 LCD	운영 언어	중국어 (기타 언어 옵션)
냉수기	소형 데스크탑 냉각기	냉수기 전력	180W
사출 전 베젤	표준 전자동 제어 사출 전 베젤
필름 두께계 (옵션)	도금 두께를 실시간으로 표시하고 설정을 통해 도금 과정을 제어하고 정밀도를 측정할 수 있다 0.01nm, 정밀도 설정 0.1nm, 한 번에 범위 설정 1-999nm
필름 두께계 (옵션)
온도 제어 구성 요소 (옵션)	샘플대 가열 모듈 300℃/500℃
어셈블리 회전 (옵션)	경사 회전, 행성 회전 등
소형차 (옵션)	본체, 무선 주파수 전원, 냉수기 등을 함께 조립하면 정체성이 좋다
설치 환경	220V/10A 3개의 구멍 콘센트 1개, 순도 4N의 이상의 고순도 아르곤 가스 (수출 압력 0.12MPa의）

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