HWN-P1500nm 레이저 직접 쓰기 시스템

HWN-P1500nm 레이저 직접 쓰기 시스템과학연구팀과 가공플랫폼을 위해 전문적으로 설계한 소범위 다기능 광각시스템으로 압전플랫폼의 이동범위에 따라 P100, P200, P500, P1000, P1500 등 부동한 모델로 나뉘며 구조가 치밀하고 조작이 편리하며 유지보수가 간단하고 가공해상도가 높으며 여러가지 수용체재료를 지지하는 등 특징을 갖고있어 각종 미나구조 및 부품제조, 재료공예탐소규모생산에 널리 적용될수 있다.이 제품군은 사용자의 특수한 수요에 따라 맞춤형 설계와 제조를 제공할 수도 있다.

신개념 기술: 와비나HWN-P1500nm 레이저 직접 쓰기 시스템레이저와 재료의 비선형 상호작용을 통해 광학 연사 한계의 제한을 성공적으로 돌파하여 나노 척도의 가공 해상도를 실현하였으며, 가장 작은 구멍의 직경은 50nm에 달한다.

다수용체 재료: 와비나 LDW-P 시리즈는 고정밀 전력 변조 (< 1 ‰) 를 통해 금속 박막, 무기 상변 재료, 포토레지스트 등 다양한 수용체 재료와 호환된다.

신뢰할 수 있는 사용 편의성: 와비나 HWN-P는 강력한 소프트웨어 기능을 가지고 있으며, 사용자가 서로 다른 쓰기 장면에 따라 선택할 수 있도록 스칼라 쓰기, 벡터 쓰기 등 다양한 쓰기 모드를 지원한다.또한 LDW-P 시리즈는 샘플 쓰기 후 온라인 분석을 지원하며, 설계, 쓰기, 분석 등의 단계를 원스톱으로 완료하여 생산성을 크게 향상시켰다.