GVC-2000T 고진공 자기 제어 이온 사출기

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개요

GVC-2000T 고진공 자기 제어 이온 사출기는 조작이 쉬운 자기 제어 이온 사출기로 자동화 기술 도금기에 시중에서 가장 좋은 사용 가치를 주는 상품이다.그것은 3D 이미징 화면 해상도, 샘플 전도도, 전자 전하를 낮추고 비교적 민감한 샘플에 대한 광선 손상을 줄이기 위해 비전도성 샘플의 예비 처리 상품에 사용됩니다.

제품 정보

高真空磁控离子溅射仪

GVC-2000T 고진공 자기 제어 이온 사출기조작하기 쉬운 자기 제어 이온 사출기로 자동화 기술 도금기에 시중에서 가장 좋은 사용 가치를 주는 상품이다.그것은 3D 이미징 화면 해상도, 샘플 전도도, 전자 전하를 낮추고 비교적 민감한 샘플에 대한 광선 손상을 줄이기 위해 비전도성 샘플의 예비 처리 상품에 사용됩니다.

1. 묘사

1. 전자동 지식 제품;

2. 열손상이 없고 효률이 더욱 높으며 립자도가 더욱 가늘어 고분별선글라스에 더욱 적합하다.

2. 기본원리

Pt-Pd, Pt, Au 및 Pd와 같은 전도성 원자재를 시료 표면에 도포하는 장비.이 외에도 비전도성 샘플은 렌즈에서 데이터 시각화를 수행하고 샘플 표면이 이온 빔 도입의 위험으로부터 보호되며 전자 부품의 유동성을 돕는 데 사용됩니다.그들은 심지어 플라스틱 박막형 전기급으로 생산할 수 있다.

3. 응용분야

1. 고해상도 스캐닝 렌즈 샘플 제조 (실제 증폭 배수 ≥ 100K);

2、전극 제조 - 각종 금속 전극, ITO 전극을 제조할 수 있다.

4. 설비 구성과 기술 매개 변수

모델&이름	GVC-2000T 고진공 자기 제어 이온 사출기
진공 시스템	터보 분자 펌프 (수입): 독일 라이보 90i (단일 자기 부상 분자 펌프, 90L/s 추출) 회전식 진공 펌프: 저장 비행 VRD-4 (흡입 속도는 1.1L/s)
진공 측정	전체 범위 복합 진공 게이지(수입): 1.0E5Pa-1E-4Pa
시스템 극한 진공	≤5E-3Pa
사출 전원	자기 제어 사출 전원 공급 장치 150W
가용 표적재	모든 금속 표적, ITO 표적
사출 전압	300-600V,표적 선택, 제어 매개변수에 따라 다름
사출 전류	0-200mA 연속 조정 가능, 스텝 5mA
사출 시간	0-9999s,연속 조절 가능한 스텝 1s
작업 인터페이스	7형 TFT 컬러 LCD 터치스크린, 해상도 800x480
작동 방식	원클릭 작업
숨 쉬는 박자	<15분
제어 방법	사출 전류와 시간만 설정하면 됩니다. 사전 사출 베젤 사용 (사전 사출 시간 설정 가능), 완전 자동 제어
보호 기능	소프트웨어와 하드웨어의 상호 잠금, 오작동 방지, 전류, 진공 보호 등
견본대 직경	φ125mm，자전 가능, 자동 수동 제어 가능, 회전 속도 4-40rpm 조절 가능
진공실	고규소 붕소 유리, 규격 사이즈 약≥200×130mm
전원 공급 장치	220V 50Hz 전력 800W
크기 & 무게	무게 424(길이)×345(세로)×420mm(높이), 25kg(순중량)
냉각 방식	내부 공기 냉각
옵션	샘플대 선택, 필름 두께 제어, 온도 모니터링 등