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"The Grand EPMA" 탄생
최첨단장 발사 전자 광학 시스템 탑재 SEM 관찰 조건부터 1μA 체급까지 다양한 빔 흐름 조건에서 타의 추종을 불허하는 탁월한 공간 해상도의 첨단 장발사 전자광학 시스템을 갖췄다.도진의 전통적인 고성능 엑스선 분광기와 결합해 분석 성능을 극대화했다. 당당한'더 그랜드 EPMA', 최고 수준의 EPMA 탄생! |
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분석 조건 번들을 사용하여 No.1의 2차 전자 이미지 해상도를 자랑합니다.(전압 10kV 가속 시,20nm@10nA//50nm@100nA/150nm@1μA)。기존 전자총(CeB6, 텅스텐 필라멘트)의 결과와 비교하면 일목요연하다.
더 큰 번들로 원래의 전자총과 같은 해상도의 이미지를 얻을 수 있기 때문에 초고감도의 X선 분석을 할 수 있다.더욱 주목할 점은 번들이 1μA일 때의 SEM 이미지입니다.1μA 이상의 번들을 얻을 수 있고 이렇게 가늘게 압축할 수 있는 것은 EPMA-8050G뿐이다.
각종 전자총의 전자빔 생성 특성 비교(가속전압 10kV)
필드 발사 유형의 SEM, EPMA는 다른 기기가 도달할 수 없는 큰 빔 흐름(가속 전압 30kV에서 최대 3μA)을 구현할 수 있다.초미량원소의 검측민감도에서 질적비약을 실현하여 원소면을 분석할 때 초미량원소의 성분분포를 가시화하였다.또한 모든 빔 흐름 범위 내에서 대물경 광맹을 교체할 필요가 없으며 합축을 전혀 걱정할 필요가 없어 고도의 자동화 분석을 실현했다.
면의 3개 이미지는 서로 다른 빔으로 흘러내려 스테인리스강 중 약 1% 정도의 Si를 면 분석한 결과 ※번들이 크고 편차가 적을수록 Si가 포함된 범위를 더 명확하게 확인할 수 있습니다.
※ 분석 조건: 가속 전압 10kV, 적분 시간 50msec.분석에는 약 1시간이 소요됩니다.
엑스선 추출 각도가 분석 성능을 결정합니다. 52.5 ° 가 한 수 위입니다.
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| 엑스선에 대한 흡수가 적을수록 민감도가 높아진다. | 높은 X선 추출각은 흡수로 인한 영향을 낮출 수 있으며 깊은 구멍의 밑부분, 구멍의 이물질을 분석할 수 있다. |
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깊은 구멍의 이물질에 대한 분석 인스턴스.왼쪽 아래는 철 (Fe) 의 분포이고 오른쪽 아래는 티타늄 (Ti) 의 분포이다.EPMA-8050G의 높은 인출 각도를 통해 표면이 뚜렷하게 오목하게 다른 샘플이라도 고정밀 분석이 가능하다. |
분광 결정체는 전체 초점 존슨형 결정을 채택한다.
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도진의 연구개발 경험을 계승한 결정 가공 제조 공정은 고감도 · 고해상도를 겸비한 분광 결정을 제공할 것을 보장한다.Johanson (존슨) 형 분광 결정체는 전체 초점 결정체로 상차가 없다. |
최대 5채널의 고감도, 고해상도를 모두 고려한 4인치 스펙트럼을 동시에 탑재할 수 있다.
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엑스선 분광기의 롤랜드 원 지름은 EPMA 분석 성능에 영향을 미치는 중요한 요소 중 하나입니다.롤랜드 원의 반지름이 1인치 증가할 때마다 검출 감도가 30% 이상 떨어집니다.섬진 EPMA 최대 가능 |
모든 조작을 마우스 하나로 할 수 있는 선진적인 조작성,'알기 쉬운'것을 추구하는 인간화된 사용자 인터페이스, 네비게이션 모드 탑재 등 여러 가지 새로운 기능은'알기 쉬운 조작'을 현실로 만들었다.초보자나 전문가급 사용자는 모두 원활한 조작 분석을 할 수 있다.
● 시료 가져오기에서 분석 보고서 생성까지 조작이 편리하다.
● 처음 사용해도 샘플 위치 SEM 관찰을 쉽게 할 수 있다.
● 비교할 수 없는 조작성으로 분석 준비 작업의 효율을 크게 향상시킨다.
● 시각적으로"이해하기 쉬운"인간적인 사용자 인터페이스를 추구한다.
● 네비게이션 모드를 탑재하여 분석 보고서를 생성할 때까지 자동으로 안내한다.