데스크탑 마스크 없는 포토레지스트 시스템

데스크탑 마스크 없는 포토레지스트 시스템

브랜드:Nanyte는

생산지: 싱가포르

NANYTE는BE는AM 데스크탑 마스크 없는 포토레지스트 시스템마스는kless lithography System/데스크톱형 레이저 직사 시스템 Direct Laser Writing System은 고가의 마스크 없이 마이크로 나노 레벨의 구조 패턴을 가공 처리하며 초점 레이저 빔 스캔을 통해 기판 표면의 포토레지스트를 직접 변선량 노출하여 마이크로미터에서 나노미터까지의 패턴 가공을 실현한다.우수한 성능을 확보하는 동시에 소형화 설계는 조작을 더욱 편리하게 하고 신속한 가공 처리를 실현하여 마이크로 나노 부품의 과학 연구와 생산의 효율을 높였을 뿐만 아니라 원가도 효과적으로 절약하였다.

빔 엔진은 자외선 레이저 빔을 연사 한계점에 초점을 맞추고, 이 초점점을 통해 설계된 도안 스캔에 따라 포토레지스트를 노출한다;이와 동시에 큰 사이즈의 웨이퍼/기판을 대상으로 정밀보조기를 통해 웨이퍼/기판을 이동하여 여러차례 폭로한후 이어서 여러차례 폭로도안을 봉합하여 전반 웨이퍼/기판에 대한 마이크로나노도안가공을 완성한다.이 빔 엔진은 6인치 웨이퍼에서 500nm 미만의 피쳐 선가중치를 가공할 수 있습니다.

l컴팩트합니다.

- 컴팩트형 풀 기능 마스크 없는 포토레지스트

l강력합니다.

- 500nm 미만 피쳐 선가중치 처리

- 단일 영역 패턴 노출을 2초 이내에 완료

- 가공 크기 150mmX150mm

l초빠른 자동 초점

- 1초 이내에 초점 맞추기

- 폐쇄 루프 초점 광학 제어와 함께 압전 드라이브

l소음 없는 다층.

- 몇 분 이내에 반자동 다중 레이어 정렬

소프트웨어 제어 인터페이스:

- 소프트웨어 인터페이스 휴먼 디자인, WASD 탐색, 아무 곳이나 마우스 오른쪽 버튼으로 클릭

- 자동 이미지 인식

- 몇 분 이내에 다중 레이어 정렬

- 포토레지스트에 몇 초 이내에 패턴을 노출하거나 텍스트를 작성합니다.

- 로드, 조준 및 노출

- 유사CNC탐색 작업

- 다중 레이어 노출 시,GDS는패턴 시각화;소프트웨어가 로드됩니다.GDS는작은 지도, 클릭 한 번으로 웨이퍼의 모든 영역을 탐색

인스턴스 적용:

실리콘 라이닝 바닥에 패턴 배열, 각 유닛은 50 × 63 μm,

인접한 패턴 사이의 간격은 3μm

포토레지스트: AZ5214E

오픈 루프 공명기 배열, 오른쪽 거리 1.5μm

왼쪽의 분리 거리는 2μm, 외곽 지름은 80μm이다

교차 전기 컨테이너(IDCs), 2μm 그리드 폭

포토레지스트: AZ5214E

금속화 개폐기 비대칭 공진기

0.8μm 원추형 부분, 측면 20✕90μm 접촉 전극

포토레지스트: AZ5214E

응용 분야:

• 광자학 분야:광자결정, 파도전도, 마이크로렌즈, 연사광학소자 등을 제조하는데 사용되는데 이런 소자들은 광통신, 광계산, 광학영상 등 분야에서 광범위하게 응용되고있다.예를 들어, 특정 광학 성능을 가진 마이크로 렌즈 어레이를 제조하여 이미징 시스템, 광 센서 등의 장치에 사용할 수 있으며, 그 성능과 집적도를 향상시킬 수 있다.

• 생물의학 분야:조직공정지지대, 마이크로흐름제어칩, 생물센서 등을 제조하는데 사용할수 있다.

• 마이크로 전자학 분야:집적회로제조에서 마스크, 포토레지스트도안 등을 제작하는데 사용되며 특히 소량, 고정밀도의 집적회로칩제조에 있어서 레이자직사기술은 원가가 낮고 신축성이 높은 우세를 갖고있다.또한 마이크로 기계 구조, 마이크로 센서, 마이크로 실행기 등과 같은 마이크로 전기 시스템 (MEMS) 부품을 만드는 데 사용할 수 있습니다.