작업 몰드 / 서브몰드 복사 재료

서로 다른 구조와 나노 프린팅 접착제를 겨냥하여 톈런웨이나는 자주적으로 연구 개발, 생산 및 판매하여 다양한작업 몰드 / 서브몰드 복사 재료。

GL 고무 스GL-Rubber Stamp(RS)

• 적용 가능한 나노 프린트: 에폭시 수지류 나노 프린트

• 적용 제품: 다이퍼서(Diffuser), 마이크로 렌즈 어레이 등

• 작업 몰드 / 서브몰드 복사 재료장점: 구조 보형성이 좋고 정밀도가 기존 PDMS 소재보다 훨씬 우수하며 50나노미터 이하의 정밀도로 사용 수명이 길다

GL-폴리머 스GL-Polymer Stamp(PS)

• 적용 가능한 나노 프린팅 접착제: 아크릴산 에스테르류, 변성 실리콘류 나노 프린팅 접착제

• 적용 제품: DOE, AR 래스터, 바이오칩 등

• 장점: 자외선 노출이 고착화되어 복제 과정이 빠르고 구조 보형성이 좋으며 정밀도가 높고 정밀도가 20나노미터 이하에 달하며 사용 수명이 길다

장치 사진