6형 나노 프린터 NIL-150

나노 압인 기술은 특징 크기를 줄이는 과정에서 전통적인 광각의 난제를 돌파하여 해상도가 높고 원가가 낮으며 생산률이 높은 특징을 가지고 있다.부터1995년에 제기된 이래 나노압인은 이미 14년간의 발전을 거쳐 여러가지 압인기술로 변화되여 반도체제조에 널리 응용되였다.mems、바이오칩, 바이오메디컬 등 분야는 인류를 변화시키는 10대 기술 중 하나로 꼽힌다.
NIL 프린터의 기본 사상은 모형을 통해 도형을 상응하는 안감 위로 옮기는 것이다. 옮기는 매개체는 보통 매우 얇은 중합체 막으로 열압이나 투사 등 방법을 통해 그 구조를 경화시켜 옮기는 도형을 보존한다.전체 과정은 압인과 도형 이동 두 과정을 포함한다.압인 방법에 따라NIL은 주로 열가소(Hot embossing), 자외선 경화 UV, 마이크로 접촉(Micro contact printing, uCP) 등 세 가지 광각 기술로 나눌 수 있다.

2. 기능

l주요 기능

나노 프린터의 주요 기능은 도형을 상응하는 라이닝 위로 옮기는 것이다. 이동하는 매개체는 보통 매우 얇은 중합체 막으로 열압이나 투사 등의 방법을 통해 그 구조를 경화시켜 이동하는 도형을 보존한다.압인 기술은 주로 다음과 같은 두 가지로 나뉜다.

열 압력:먼저 라이닝 바닥에 얇은 열 플라스틱 고분자 재료 (예:PMMA）。온도를 올려 이 열가소성 재료의 유리화 온도 Tg(Glass transistion temperature) 위에 도달한다.열가소성 재료는 고탄성 상태에서 나노미터 척도를 가진 금형을 위에 누르고 적당한 압력을 가하여 열가소성 재료가 금형의 빈 챔버를 채우고, 모압 과정이 끝나면 온도가 낮아져 열가소성 재료를 고화시켜 금형과 중합된 도형을 얻는다.그런 다음 몰드를 제거하고 남아 있는 폴리머를 제거하기 위해 상이성 각식을 수행합니다.그런 다음 그래픽 전송을 수행합니다.도면 이동은 각식 또는 분리 방법을 사용할 수 있습니다.각식 기술은 열가소성 재료를 마스크로 하여 그 아래의 안감을 각방향 이성으로 각식하여 상응하는 도형을 얻는다.박리 공정은 먼저 표면에 금속을 한 층 도금한 후 유기용제로 중합물을 용해하면 열가소성 재료의 금속도 박리되어 라이닝 바닥에 금속이 마스크로 되어 있고, 그 후 다시 각식하여 도형을 얻을 수 있다.

자외선 압인:열압인 중 열변형의 단점을 개선하기 위해 텍사스 대학의C. G. willson과 S. v. Sreenivasan은 자외선에 투명한 석영 유리(하드 모델) 또는 PDMS(소프트 모델)를 사용하는 스텝-플래시 엠프린트(Step-Flash Imprint Lithography)를 개발했으며, 광 저항 접착도가 낮고 광경화된 단일 용액을 사용한다.먼저 낮은 점도의 단일 용액을 압인할 라이닝 바닥에 떨어뜨리고 마이크로 전자 공정과 결합하여 박막의 전적은 회전 접착제로 덮는 방법으로 매우 낮은 압력으로 템플릿을 웨이퍼에 눌러 액체를 분산시키고 템플릿의 빈 챔버를 채울 수 있다.금형을 통과하는 자외선 노출은 압인 영역의 중합물에 중합과 고화 성형을 발생시킨다.마지막으로 잔류층을 각식하고 도형을 이동하여 깊이와 너비의 구조를 얻는다.마지막 탈모 및 그래픽 전환 프로세스는 열전압 프로세스와 유사합니다.

l기술적 특징

★ 호스트 포함: 진공 시스템, 온도 제어 시스템, 압력 제어 시스템, 수냉 시스템,PLC제어

제조 시스템, 소프트웨어 운영 인터페이스, 자외선, 단면 전자기 가열 시스템

장치 최대 인쇄 크기:6 인치

설비는 열 압인, 자외선 노출 압인을 실현할 수 있다.

★최대 압력:8bar(공압기),20bar(외접 초정실 기원)

온도 범위: 실온에서 250 섭씨 도.

자외선 유형: 고압 수은등: 전력:400W, 주 파장:365nm。

★장치 진공도:10 파.

★설비는 무작위로 과학연구수요에 따라 다음과 같은 전 계렬의 나노압인접착제를 제공할수 있다.

열전압 접착제, 자외선 경화제

심층 부식형 프린팅젤, 리프트형(Lift-Off) 엠보 테이프

빠른 템플릿 제작 재료, 각종 템플릿 부착 방지제, 라이닝 점착제 등

★설비에 따라 무작위로 과학연구수요에 따라 맞춤형나노압인템플릿을 제공할수 있는데 여기에는 주기가 포함된다.400nm의4인치 도트 패턴 템플릿 니켈 템플릿SFP® & Hybrid Mold®소프트 템플릿

지출보유20nm해상도 및 곡면 압인, 문헌 공예 지원,

★자동 탈모, 전자기 가열 기능 지원

국내외 보다 크다 10 개 고객

★ 프로세스는 다음과 같습니다.

나노 압인 접착제 코팅 공정 지원

나노 압인 템플릿 점착 방지 공정 지원, 탈모 접착제의 영향 방지

나노 프린터 파라미터 조절

PDMS를 포함한 소프트 템플릿 프로세스템플릿,SFP및Hybrid Mold공예

ICP각식 공예

플렉시블 폴리머 라이닝 프레스 공예,Nickel Template금속재질 니켈 템플릿 열압PET、PMMA등

분리(Lift-off)) 공정 지원, 금속 구조 가공

나노 압인 표징 기술

압인 공예 연구 개발 지도 갱신, 문헌 지원

l기술력

이 장비의 발명자는 2001년부터 2003년까지 나노 압인 기술 발명자이자 미국 프린스턴 대학 StephenY.Chou 교수의 나노 구조 실험실에서 3년 동안 연구 보조원으로 연구 작업을 진행하여 자외선 경화 나노 압인 공정과 재료를 발전시켜 나노 압인 기술의 발전에 중요한 기여를 하였다.2004년에 재료과학과 공학과에 가입한 후 나노 마이크로 가공 기술과 나노 프린팅 기술을 중심으로 연구 작업을 계속 전개하고 몇 가지 신형 나노 프린팅 재료를 연구 개발했으며 신형 고분자 프린팅 템플릿을 발전시켜 곡면 나노를 제시했다.쌀 압인 기술;이용863과제"자외선 경화 및 열전압 겸용 나노 압인 설비의 연구 제작 및 응용"프로젝트의 지원으로 자외선 경화 및 열전압 기능 겸용 나노 압인 설비를 성공적으로 연구 제작하였으며, 현재 이미 제품이 되었으며, 난징대학, 베이징항공우주대학, 국방과학기술대학, 헤이룽장대학, 중국과학원 선전연구원 등 여러 대학교와 과학연구기관에 의해 채용되어 자주재산권을 가진 나노 압인 전문 기술과 현재 국제 수준을 동시에 획득하였으며, 이 분야의 가장 선진적인 지식재산권을 가진 국제 기술과 국제 기술 신청을 획득하였다.