1200 ℃ 승화 응화로

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개요

1200 ℃ 승화 응화로는 물질의 승화와 응화 특성을 이용하여 특정 재료를 분리, 정제 또는 제조하는 전용 설비로, 그 핵심 원리는 온도, 압력 및 분위기 조건을 정확하게 제어하여 목표 물질이 고체와 기체 사이에서 직접 전환되도록 하는 동시에 액체 단계를 피함으로써 고효율 순화 또는 박막 성장을 실현하는 것이다.

제품 정보

1200 ℃ 승화 응화로

제품 소개:

1200 ℃ 승화 응화로물질의 승화와 응화의 특성을 이용하여 재료의 분리, 정제 또는 제조를 실현하는 일종의 전용 설비로, 이 설비는 신소재, 반도체, 항공우주, 화학공업 등 분야에 광범위하게 응용되며, 전통 설비에 비해 순도가 높고 손실이 낮으며 2차 오염이 없는 등 우세를 가지고 있다.

이 설비는 작업 시 원료가 승화구에서 기체 상태로 승화되어 불순물을 벗어난 후 응화구에서 다시 순도 높은 산물로 응결되어 분말, 덩어리 재료 또는 기능 박막을 제조할 수 있다.

설비는 고정밀 온도 제어 시스템 (온도 파동 ± 1 ℃ 내), 고효율 진공 시스템 (진공도는 수요에 따라 맞춤형), 유연한 분위기 제어 시스템 및 고온 내부식 난로체를 장착하여 안정적인 운행과 산물 순도를 보장한다.

이 설비는 적용 장면이 매우 광범위하여 반도체, 고온합금 등의 재료를 정제하고 그래핀 등 특수 재료를 제조하여 고가치 화합물을 분리할 수 있다.그 핵심우세는 산물의 순도가 99.99% 이상에 달할수 있고 공예가 록색환경보호이고 조작이 편리하며 매개 변수를 조절할수 있고 통용성이 강하다는것이다.

작동 원리：

1.1200 ℃ 승화 응화로의 승화 과정: 고체 물질은 특정 온도 (용해점 이하) 와 압력 (상압 또는 감압) 하에서 직접 기화되어 휘발성 성분을 형성한다.

2.전송 과정: 기체 상태는 온도 경도 구동 하에 고온 구역 (예: 승화통 또는 분말 구역) 에서 저온 구역 (예: 응화통 또는 결정종 표면) 으로 이동한다.

3.응화 결정: 휘발성 성분이 저온 지역에서 석출되어 격자 방향으로 성장하여 단결정 (예: SiC 결정) 또는 균일 박막 (예: 반도체 재료) 을 형성한다.

주요 응용 분야：

1. 화학 공업 제품 정제: 승화 특성을 가진 물질을 분리한다.

2.반도체 재료 제조: 성장 고품질 SiC 결정 또는 마이크로미터급 박막 (근거리 승화로).

3.유기 소분자 순화: 실험급 설비는 고부가가치 유기화합물을 정제하는 데 사용된다.

제품 주요 세부 사항: