1200 ℃ 안개 cvd 화학 기상 퇴적 설비

제품 소개:

1200 ℃ 안개 cvd 화학 기상 퇴적 설비안개화 기술과 화학가스상침적(CVD) 공정을 결합하여 전구체 용액을 미세한 액적으로 안개화한 후 고온반응실에서 화학반응을 일으켜 고체박막을 생성하여 균일한 침적, 성분 제어 가능, 복잡한 구조에 적합 등의 우세를 가지고 있으며 반도체, 광학도금, 신에너지재료 등 분야에 널리 응용되고 있다.

주요 애플리케이션:

1. 반도체 산업: 안개 CVD 장비는 반도체 산업에서 폴리 실리콘, 질화 실리콘, 산화 실리콘 등과 같은 다양한 박막 재료를 제조하는 데 널리 사용됩니다.이런 박막재료는 반도체부품에서 관건적인 역할을 하는데 례하면 격리층, 보호층, 전도층 등이다.

2. 광학 도금: 안개 CVD 장비는 항반사 필름, 증투막 등 광학 도금을 제조하는 데 사용할 수 있다.이 박막들은 광학 부품의 성능을 개선하고 광전송 효율을 높일 수 있다.

3. 신에너지 재료: 신에너지 분야에서 안개화 CVD 설비는 박막 실리콘 태양전지, 칼슘 티타늄 태양전지 등 태양전지 중의 박막 재료를 제조하는 데 사용할 수 있다.이런 박막 재료는 태양전지의 전환 효율과 안정성을 높일 수 있다.

4. 기타 분야: 안개 CVD 장비는 내마모성, 내부식 코팅, 나노 재료, 웨이퍼 등을 제조하는 데도 사용할 수 있다.이 재료들은 기계, 전자, 항공 우주 등 분야에서 광범위한 응용 전망을 가지고 있다.

주요 특징:

1. 침적 균일성이 좋다: 안개화 기술은 전구체 용액의 균일한 분포를 확보하여 기재 표면에 균일한 박막층을 형성할 수 있다.이것은 고품질, 고성능의 박막 재료를 제조하는 데 매우 중요하다.

2. 성분 통제성이 강하다: 전구체 용액의 구성과 농도를 조정하여 박막의 성분과 성질을 정확하게 통제할 수 있다.이로 인해 안개 CVD 장비는 복잡한 성분 박막을 제조하는 데 독특한 장점을 가지고 있습니다.

3. 복잡한 구조에 적합: 안개 CVD 장비는 깊은 구멍, 도랑 등 복잡한 형태의 기초재를 처리할 수 있다.안개가 녹은 후의 액적은 이런 복잡한 구조 내부에 깊이 들어가 균일한 퇴적을 실현할 수 있다.

4. 퇴적 온도 낮음: 플라즈마 강화 화학 기상 퇴적 PECVD와 같은 일부 안개 CVD 장비는 플라즈마를 사용하여 화학 반응을 촉진하고 낮은 온도에서 고품질 박막의 퇴적을 달성 할 수 있습니다.이는 에너지 소비량을 줄이고 열에 민감한 기재의 손상을 줄이는 데 도움이 된다.

제품 상세 정보:

주요 기술 매개 변수: