다공질화규소 TEM 적재망투과전자현미경 (TEM) 을 위해 특별히 설계된 고성능 적재망으로 고순도 단결정규소를 기저로 초박질화규소 (두께 10-50nm) 를 지지막으로 덮어 원자급 해상도의 영상을 실현할 수 있다.

　　다공질화규소 TEM 적재망이점:

1. 원자급 해상도: 두께가 균일하고 전자빔의 투과율이 높으며 영상배경소음이 비교적 낮아 원자급 구조를 선명하게 나타낼 수 있으며 특히 구차전경의 고해상도 표징에 적합하다.

2. 내고온과 내부식: 질화규소막은 1000 ℃ 의 고온 및 산성환경에 견딜 수 있으며 고온견본제조나 산성조건에서의 TEM관찰에 적용되며 전통적인 동망은 이런 조건에서 쉽게 변형되거나 부식된다.

3. 무탄소원소의 교란: 탄소원소를 함유하지 않아 전통적인 탄소막적재망이 전자빔의 살사하에 탄소를 축적하는 문제를 피면하고 장시간 관찰하거나 고선량의 살사할 때 영상의 질이 안정되도록 확보한다.

4. 양호한 전자빔 투과성: 초박형의 질화규소막은 탄소원소를 함유하지 않아 탄소축적을 효과적으로 피하고 전자빔의 산란을 줄일 수 있으며 선명한 배경을 제공할 수 있으며 특히 구차원자분별표징에 적합하여 고품질의 TEM 이미지를 얻을 수 있다.

제조 방법:

통상 화학기상침적법(CVD)을 광각·각식 등 미나가공기술과 결합해 제조한다.례를 들면 먼저 LPCVD를 통해 규소편기저에 질화규소박막을 침적한후 광각기술을 리용하여 박막에 도안을 형성한후 반응이온각식 (RIE) 등 방법으로 다공구조를 새기고 나중에 기저규소를 제거하여 다공질화규소TEM 적재망을 얻는다.

사용 시 습하거나 부식성 환경에서 장시간 노출을 피하여 질화규소막의 성능이 떨어지는 것을 방지한다.