반도체 업계는 실리콘 등 반도체 소재를 기반으로 집적회로, 광전기 부품 등 분야를 포괄하고 있으며 이 중 집적회로가 차지하는 비중은 80% 를 넘는다.이 업종은 초순수에 대한 수요가 가혹하고 수질이 생산의 질과 성능에 직접적인 영향을 미치므로 초순수 모니터링이 관건적인 고리가 된다.
현재 반도체의 초순수 기준은 국가 표준 전자물의 최고 요구를 훨씬 초과하였으며, 핵심 지표에는 저항률이 18.2조 유럽 (25 ℃) 이상에 달해야 하며, 이온 함량이 매우 낮도록 확보해야 한다;TOC(총 유기탄소)는 광각 정밀도에 영향을 주지 않도록 0.5ppb 이하로 제어한다.0.05㎛ 이상의 미세먼지는 리터당 100개를 넘지 않는다.산소를 용해하려면 1ppb보다 낮아야 금속 이온의 산화를 방지할 수 있다.
초순수는 웨이퍼 세척, 광각 공정, 각식 냉각, 기계 광택 등 전 생산 공정에 응용되며, 설비 냉각 및 실험실 연구 개발에도 사용된다.모니터링 방법상 미립자는 액체 입자 계수기로 측정하고,TOC、저항률, 용해산소 등은 온라인 전기화학기기를 통해 실시간으로 모니터링하고 통합시스템과 결합하여 수질동태관리를 실현한다.
모니터링 주기는 생산 수요와 수질 변화에 따라 결정되며, 정기적으로 샘플을 채취하여 분석해야 한다.초순수는 수돗물이 ACF, UF, RO, EDI 등 다단계 처리된 뒤 TOC-UV 램프 장치를 통해 1ppb 이하로 내려간다.
반도체 부품의 크기가 줄어들고 정밀도가 높아짐에 따라 수질 요구가 끊임없이 높아지고 있다.업계는 검측 정밀도를 높이고 원격 모니터링 등 신기술을 응용함으로써 수질 문제로 인한 생산 손실을 줄이고 제품 양률을 보장하기 위해 더욱 가혹한 도전에 대응하고 있다.