플래시 래스터 가공법고성능 회절 그리드를 제조하는 핵심 기술로 기저 재료 표면에 특정 경각을 가진 주기성 톱니 모양의 도랑을 부식함으로써 광 에너지의 정방향 집중을 실현하고 고회절 효율, 정확한 파장 선택, 공정 통제성이 강한 등 특징을 겸비하여 스펙트럼 분석, 레이저 기술, 천문 관측 등 광학 분야에 광범위하게 응용되며 전통적인 울타리의 성능 한계를 돌파하는 관건적인 공정이다.​

고연사 효율과 정방향 집광은 그 핵심 기술 우세이다.전통적인 평면 울타리는 빛 에너지가 각 연사 등급에 분산되는 문제가 존재하는데, 플래시 울타리 가공 공정은 도랑의 플래시 각도 (일반적으로 1 ° -30 °) 를 정확하게 제어하여 80% 이상의 빛 에너지를 특정 연사 등급에 집중시켜 빛의 이용률을 대폭 높인다.분광기에서 이 공정으로 제조한 플래시 그리드는 목표 파장의 신호 강도를 현저하게 강화하여 미량 물질의 스펙트럼 검측을 더욱 민감하게 할 수 있다;레이저 조정 시스템에서 섬광각 설계를 최적화함으로써 특정 파장 레이저의 고효율 출력과 정확한 조정을 실현할 수 있다.​

다공예 적합성과 고정밀 제어로 기술력을 과시합니다.플래시 그리드 가공 공정은 기저소재(유리, 금속, 반도체)와 응용 수요에 따라 기계적 새김법, 홀로그램-이온빔 새김법, 레이저 직기법 등으로 나눌 수 있다.기계적 묘사법은 금강석 칼을 통해 기저에 선을 따라 새기며, 도랑의 정밀도는 나노급에 달하며, 큰 크기의 울타리를 제조하는 데 적용된다;홀로그램-이온빔 각식법은 간섭 줄무늬를 이용하여 광각 도안을 형성하고, 다시 이온빔 정방향 각식을 통해 섬광 구조를 형성하여 고정밀 울타리를 대량 생산하기에 적합하다.두 공정 모두 도랑 주기(0.5μm-100μm)와 섬광각의 정확한 제어를 실현할 수 있으며 오차는 0.1 ° 이내로 제어할 수 있다.​

복잡한 환경 적응성은 응용 경계를 넓힌다.이 공정을 통해 제조된 플래시 그리드는 표면에 알루미늄, 금 등 금속막 또는 매체막을 도금하여 내마모성과 부식성능을 강화하고 고온, 고습도 등 가혹한 작업환경에 적합하다.천문망원경의 분광기에서 금속막의 섬광격자는 우주환경의 복사와 온도파동을 감당할수 있다.공업온라인검측설비에서 매체막의 섬광격자는 분진과 화학기체의 침식을 막아내고 장기적으로 안정적인 운행을 보장할수 있다.​